Occasion ASYST 9700-4631-01 #293761486 à vendre en France

ASYST 9700-4631-01 est un aligneur de masque très avancé et sophistiqué utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour les procédés de photolithographie. Cet équipement de précision est conçu pour aligner et exposer avec précision des masques sur des substrats à résolution sub-micron, ce qui en fait un outil indispensable dans la réalisation de circuits intégrés et autres dispositifs microélectroniques. Au cœur de 9700-4631-01 alignement de masque est son système optique haute performance, qui se compose d'une source lumineuse puissante, optique précise, et des mécanismes d'alignement avancés. La source lumineuse comprend typiquement une lampe ou un laser ultraviolet de haute intensité (UV), qui est utilisé pour projeter le motif de masque sur le substrat avec un degré élevé de précision. Le système optique est conçu pour assurer un éclairage uniforme et une projection nette de l'image, indispensable pour obtenir un alignement précis et un transfert de motifs. Une des caractéristiques clés de l'ASYST 9700-4631-01 est sa capacité d'alignement avancée, qui permet une précision d'alignement de sous-microns entre le masque et le substrat. Ce niveau de précision est crucial pour la réalisation de motifs complexes avec des caractéristiques de sous-longueurs d'onde profondes, telles que celles que l'on trouve dans les dispositifs semi-conducteurs modernes. L'aligneur est équipé de caméras d'alignement haute résolution et de mécanismes de contrôle d'étage précis pour permettre un alignement précis du masque et du substrat avant exposition. En plus de ses capacités d'alignement, 9700-4631-01 offre également une gamme d'options d'exposition pour répondre à différentes exigences de processus. Cela comprend la capacité de contrôler la dose d'exposition, le temps d'exposition et d'autres paramètres pour optimiser le processus de lithographie pour des applications spécifiques. L'alignement peut également comporter un logiciel de contrôle avancé qui permet l'alignement automatisé et des séquences d'exposition, rationalisant le processus de photolithographie et réduisant le risque d'erreur humaine. ASYST 9700-4631-01 est conçu pour être convivial et facile à utiliser, avec une interface intuitive qui permet aux opérateurs de mettre en place et d'exécuter des processus de lithographie avec une formation minimale. L'aligneur peut également comporter des systèmes intégrés de diagnostic et de surveillance pour garantir des performances optimales et résoudre les problèmes qui peuvent survenir pendant le fonctionnement. En termes de spécifications, 9700-4631-01 offre généralement une surface de travail d'une certaine taille, allant typiquement de quelques pouces carrés à plus d'un pied carré, selon le modèle. L'alignement peut également comporter des options supplémentaires telles que des supports de masque et de substrat, des contrôles environnementaux et d'autres accessoires pour améliorer sa fonctionnalité et ses performances. Dans l'ensemble, ASYST 9700-4631-01 est un aligneur de masque de pointe qui offre une grande précision, polyvalence et facilité d'utilisation pour une large gamme d'applications de lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Son système optique avancé, ses capacités d'alignement et ses options d'exposition en font un outil essentiel pour la production de dispositifs microélectroniques de haute qualité avec des caractéristiques de sous-microns.