Occasion BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 #9174090 à vendre en France
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Vendu
ID: 9174090
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 2011
Mask aligner, 4"-6"
Specifications:
Resolution:
1.25 um lines and spaces, UV-4 (340-440nm)
1.0 um lines and spaces, UV-3 (300-350nm)
Machine to machine overlay:
+/- 0.25 um, 125 / 100 mm systems, 98% of data
+/-0.30 um, 150 mm systems, 98% of data
Machine to itself overlay: +/- 0.25 um, 98% of data
Throughput:
120 Wafers per hour, 125 / 100 mm systems
100 Wafers per hour, 150 mm systems
Depth of focus: +/- 6 um for 1.5 um lines and spaces
Focus stability: +/- 2.0 um over 6 days
Focus range: +/- 200 um, +/-450 um
Extended bellows chuck:
Partial Coherence: Variable, 0.37 to 0.86
Numerical Aperture: .167
Uniformity of Illumination: +/- 3.0%
Particle generation: <7 Particles per wafer pass (1.0 um or larger)
Pre alignment and first-level placement accuracy: +/-15 um
Footprint: 18.65 Square feet (1.732 square meter)
Electrical: 120 Vac at 10 Amps, or 240 Vac at 5 amps
Includes:
Several spare parts
User manuals
2011 vintage.
BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 est un aligneur de masque avancé, piloté par le processus, conçu pour une microfabrication ultra précise. Il s'agit d'un équipement de formation d'images qui combine une optique de pointe et une technologie de contrôle de mouvement précise pour créer des motifs sur des couches photorésistantes. Ce système est utilisé pour définir des caractéristiques de circuits, telles que des largeurs de lignes, sur des boîtiers électroniques et créer des cartes de circuits imprimés pour divers composants. L'unité BSL OS2000 se compose de quatre grands sous-systèmes : optique, commande de mouvement, alignement de précision et commande ergonomique. L'outil optique est constitué de deux faisceaux laser qui sont utilisés pour générer une image modelée sur la couche de photorésist pour créer le motif désiré. L'outil de commande de mouvement utilise un moteur multispindle pour positionner les faisceaux laser à des endroits précis. Le modèle d'alignement précis utilise un servo en boucle fermée pour maintenir la position précise des faisceaux laser. Ceci garantit que l'image modelée est créée avec précision sur la couche de résine photosensible. L'équipement de contrôle ergonomique est conçu pour assurer le confort de l'utilisateur, avec une interface utilisateur réglable et des contrôles ergonomiques. BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 offre une excellente résolution et précision. Il peut atteindre une résolution de motif jusqu'à 50nm, et peut reproduire avec précision les fines ouvertures et les caractéristiques critiques. Le système offre également des niveaux élevés de linéarité pour une grande fidélité aux conceptions originales. En outre, l'unité peut fonctionner à une large gamme d'énergies, de la lumière visible standard aux longueurs d'onde ultraviolettes, et a une gamme de longueurs d'onde réglable. La machine offre une répétabilité pour assurer le contrôle de la qualité de la production et le débit. OS2000 est un choix idéal pour la fabrication de circuits semi-conducteurs et imprimés. Il combine les dernières techniques de microfabrication avec le plus haut niveau de précision, et il est facile à installer et à utiliser. Ses capacités d'automatisation avancées peuvent réduire le coût et le temps associés aux opérations d'alignement des masques. En outre, il est très fiable et produit des résultats cohérents.
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