Occasion CANON 501 F #68942 à vendre en France

CANON 501 F est un aligneur de masque automatisé utilisé dans la fabrication de circuits intégrés, où il est utilisé pour aligner précisément les motifs d'un photomasque avec ceux d'une plaquette revêtue de photorésist ou d'un autre substrat. L'aligneur est capable de positionner correctement le masque à une précision de quelques nanomètres. 501 F est capable de positionner le masque et la plaquette aux deux axes X et Y. Un cadre à vide maintient la plaquette en place car elle est traduite par trois micromoteurs qui peuvent être déplacés dans les directions X et Y, à l'aide de codeurs qui suivent le mouvement. Les trois moteurs peuvent être commandés extérieurement pour différentes procédures d'alignement et pour différentes plages de mouvement. Pour aligner avec précision le masque et la plaquette, on utilise un laser pour calculer les distances des marqueurs à la surface du substrat. Le laser est placé sur le substrat et projeté sur le masque pour mesurer la distance et calculer la valeur d'alignement. Une autre caractéristique de CANON 501 F est sa capacité à effectuer un ajustement précis de l'alignement à l'aide d'un processus de rétroaction. 501 F dispose d'un obturateur pneumatique intégré pour protéger le masque et la plaquette contre les particules de poussière et autres contaminants. L'obturateur pneumatique est entièrement automatique et peut être ouvert et fermé rapidement. La machine est également équipée d'une lampe d'éclairage UV, qui sert à vérifier la qualité de l'alignement. Un moniteur de bord permet à l'opérateur de vérifier les résultats de l'alignement. CANON 501 F est équipé d'un équipement de commande moteur bidimensionnel, qui permet l'alignement à grande vitesse du masque et de la plaquette. Le système de commande du moteur est précis et son temps de réponse rapide. L'unité est également capable d'effectuer une répétabilité de positionnement pour des tolérances d'alignement rapproché. Cette machine est également capable d'effectuer un alignement continu pour assurer une précision d'alignement tout au long du processus. 501 F est utilisé pour l'alignement des masques pour les couches métalliques, les couches de silicium polycristallin et les autres couches utilisées dans les CI. La machine est utilisée dans la fabrication de puces, telles que le processeur applicatif, la puce mémoire et le contrôleur d'affichage.