Occasion CANON MPA 500 Fab #9226312 à vendre en France

CANON MPA 500 Fab est un aligneur de masque fiable et performant conçu pour fournir des capacités de photolithographie avancées dans le processus de fabrication de composants microélectroniques, tels que les dispositifs semi-conducteurs haute densité. Il intègre un équipement innovant de Sucker Substrat, permettant une manipulation précise du substrat, et permet une photolithographie extrêmement précise, reproductible et très précise. Le système est également capable d'appliquer plusieurs couches de caractéristiques avec un degré élevé de répétabilité, de tolérance et de précision d'alignement dans l'enveloppe de conception. L'objectif de projecteur utilisé dans CANON MPA 500FAB est une solution optique haut de gamme, offrant d'excellentes qualités d'imagerie pour la précision de l'alignement avec l'imagerie plein champ et bord du champ. Il est également capable d'effectuer une imagerie spectrale avec des sources lumineuses allant de l'ultraviolet à l'infrarouge. La diode laser à impulsion continue (CPLD) et la technologie Deep Ultra Violet (DUV), disponibles en différentes longueurs d'onde, ont été intégrées à l'unité, offrant une flexibilité dynamique de contrôle de l'exposition. MPA-500FAB dispose d'un microscope optique de haute précision et de la dernière technologie d'acquisition de données et de traitement d'images à haut débit avec un contrôle de la contamination à faible niveau de particules. Sa fonction d'imagerie aérienne active assure un alignement précis des géométries de processus critiques avec une vitesse et une précision améliorées des processus d'enregistrement. De plus, sa machine de mise au point automatique avancée, sa source lumineuse ABFR et son S/W améliorent les performances globales de l'outil, ce qui permet une performance et une fiabilité accrues. La technologie de maintenance assistée par ordinateur (CAM) adoptée dans CANON MPA-500FAB permet un entretien rapide et facile, des rappels de maintenance et des fonctions de maintenance prédictive pour assurer le bon fonctionnement et éviter les dommages critiques causés par des défauts à court terme pendant la production. Il offre également un outil d'accès automatisé sécurisé et optimisé pour la gestion des bases de données. Le modèle propose également un nouvel équipement de suceur de substrat capable d'absorber complètement le vide et de travailler d'une main pour assurer une fiabilité et une précision maximales du processus de manipulation du substrat. Cela, à son tour, maximise le débit, ainsi que la précision et la répétabilité, et fournit un environnement idéal pour les deux ensembles de pas de placement et de soulèvement. En outre, MPA 500FAB permet une large gamme de capacités de processus et offre des options de processus brevetés pour l'optimisation des processus. Les outils comprennent la méthode source secondaire (SSM) et le moteur de correspondance (ME), qui calculent très précisément le mouvement du substrat, ainsi que la séquence optimisée (OS) qui minimise grandement la perte de temps lors de l'échange de masque. Enfin, le système offre une gamme presque illimitée de personnalisations de tailles de fonctionnalités, de mises en page de masques et de séquences de processus pour la flexibilité de conception.