Occasion CANON MPA 500 Fab #9373199 à vendre en France

CANON MPA 500 Fab est un aligneur de masque capable de produire des procédés photolithographiques de haute fidélité et de haute précision. Il est doté d'une technologie d'alignement optique de pointe et est capable d'obtenir une précision de position de 20 µm avec un temps d'alignement de 8 secondes. Sa technologie de traitement numérique du signal permet une précision d'alignement ultime avec une répétabilité de 0,5 µm dans la direction des axes X et Y. L'équipement est équipé d'un système d'imagerie multi-lentilles avancé et d'objectifs de microscopie pour atteindre la précision d'alignement de puce à puce avec +/- 3 µm dans le pire des cas. Il est conçu pour minimiser la distorsion de l'image du masque permettant différentes configurations d'exposition en rotation entre le masque et la puce pour une répétabilité d'exposition uniformément répartie. L'unité est également conçue pour minimiser les erreurs cumulatives qui peuvent provoquer une aberration du motif du masque en réinitialisant l'alignement après chaque exposition. CANON MPA 500FAB utilise une base de données intégrée qui permet de programmer jusqu'à 20 paramètres d'exposition et durées d'exposition, offrant un débit élevé avec des résultats d'alignement reproductibles. Son interface graphique conviviale permet une rétroaction instantanée tout en permettant une programmation rapide du processus d'alignement. La machine dispose d'un alignement hors ligne et d'un outil d'éclairage hors-axe pour les alignements de dispositifs filaires ou non-traversants. Il est livré avec un grand écran et des panneaux ergonomiques pour un fonctionnement facile. L'actif comprend un microcontrôleur qui intègre une mémoire standard non volatile pour stocker jusqu'à 10 photos et 60 alignements. MPA-500FAB supporte une grande variété de tailles de plaquettes de 25mm à 200mm. Le modèle est entouré d'un design moderne et élégant, doté d'un équipement intégré de gestion de la poussière. Dans l'ensemble, CANON MPA-500FAB est une solution fiable, facile à utiliser et intuitive pour le processus de photolithographie avec une performance et une précision exceptionnelles. Il offre polyvalence, vitesse et efficacité qui répond aux exigences difficiles de l'industrie moderne des puces.