Occasion CANON MPA 500FA #293592855 à vendre en France

CANON MPA 500FA Mask Aligner est un dispositif utilisé pour gérer avec précision le transfert de motifs microscopiques d'un pochoir (ou masque) sur un substrat assigné. C'est un équipement essentiel dans la fabrication de composants et de dispositifs microélectroniques, ainsi que dans la production de structures photoniques et micro-mécaniques. CANON MPA-500FA fournit un alignement rapide et de haute précision des masques avec des tailles de pas fixes et variables ainsi que des alignements XY et XY Θ. Il intègre également des fonctions brevetées Auto Align et Auto MOVE pour un alignement rapide et fiable. Le MPA 500 FA utilise des dispositifs à couplage de charge (CCD) pour améliorer la précision de l'alignement. Il dispose également d'un système de refroidissement perfectionné conçu pour aider à réduire la dérive thermique et la nécessité d'étapes manuelles pré-alignement. Il est conçu avec des fonctions avancées de filtration et d'élimination des débits qui réduisent la contamination particulaire de la surface de masquage. MPA-500FA a un étage de plaquette sensible avec une course de 15mm par 15mm, et un système de mesure de distance fiable (DMS) de +/-0,02µm à l'aide d'un PSD. Il a une vitesse d'étage de 50mm/s, et une gamme de taille de motif de 1mm à 20mm avec des pas de modèle minimum de 0,05 mm, fournissant une plus grande précision tout au long des étapes et masquer les processus d'alignement. De plus, le CANON MPA 500 FA est équipé de divers modes d'alignement pour supporter une gamme de motifs étroitement espacés, de motifs fins et même de motifs ultra-fins. Il offre également une multitude de modes d'exposition, y compris la double distance directe (D2D), la double exposition (DE) et l'exposition unique (SE). MPA 500FA fournit un alignement efficace et agile pour transférer et reproduire fidèlement votre motif de conception. Il est fiable, efficace et économique, ce qui le rend idéal pour la production de dispositifs à grande échelle et à faible coût à l'échelle des nanomètres et des microns.