Occasion CANON MPA 500FA #293592857 à vendre en France

CANON MPA 500FA est un alignement de masque plein champ avancé qui offre des capacités lithographiques précises pour divers domaines tels que l'opto-électronique, les MEM et les ASIC. Cet équipement de pointe permet une exposition aux UV stable sur toute la surface du substrat. CANON MPA-500FA offre une précision d'exposition supérieure avec une uniformité ± 0,5 mJ/cm2 et une excellente répétabilité pour les alignements. La fonction d'auto-impression avancée ajuste automatiquement le mode d'impression en fonction de la taille du substrat, ce qui augmente la productivité. La fonction de réglage rapide permet un changement rapide et facile des paramètres d'exposition. La bibliothèque d'images intégrée permet en outre l'exposition simultanée de plusieurs substrats, maximisant le rapport coût-efficacité. La précision d'alignement est améliorée par un équipement avancé X-Y Stage, réduisant le risque de désalignement. Il en résulte un procédé extrêmement précis avec un taux de rendement élevé. MPA 500 FA dispose d'un système d'imagerie haute résolution qui assure une exposition uniforme sur l'ensemble du substrat. L'unité est capable de traiter des substrats jusqu'à 200mm avec une grande précision de serrage et réduit les secousses à travers la machine active de réduction des vibrations. L'outil de sécurité intégré offre une protection contre la surexposition et l'oxydation. Le masque aligneur est en outre équipé d'un panneau tactile qui permet un fonctionnement intuitif avec une échelle de lecture directe. MPA 500FA offre également une protection de l'environnement avec des filtres à air à haut rendement et des systèmes d'échappement. Les lampes à halogénure de grande puissance assurent un éclairage stable et une homogénéité, tandis qu'une méthode de durcissement UV de grande puissance réduit le temps de durcissement et augmente le débit. CANON MPA 500 FA est un adaptateur de masque idéal pour les applications de recherche et de production, permettant aux utilisateurs d'obtenir une impression haute vitesse et précise. L'équipement est compatible avec une large gamme de substrats tels que le silicium sur saphir, le silicium, le saphir et les blocs de verre.