Occasion CANON MPA 500FA #9226328 à vendre en France

CANON MPA 500FA est un aligneur de masque automatique de haute précision qui offre une méthode très précise et répétable pour la lithographie optique. Il est conçu pour la fabrication et l'essai d'une large gamme de structures 3D, y compris MEMS, microfluidiques, et haut ratio d'aspect micro- et nanostructures. Il a une grande surface de travail, jusqu'à 200mm x 200mm (7,9 po x 7,9 po). La précision d'alignement peut atteindre 0,02 microns (2 nm) pour l'alignement latéral et 0,15 microns pour l'alignement vertical. La répétabilité de l'alignement est inférieure à 0,01microns (1nm) pour l'alignement latéral et vertical. CANON MPA-500FA est conçu pour l'alignement de masques en polyimide, chrome et or, entre autres. La précision d'alignement du masque polyimide est de 0,03 microns (3 nm). Le MPA 500 FA dispose d'un système d'alimentation par gravité, d'un servomoteur et d'un codeur rotatif pour un positionnement latéral et vertical précis. La précision d'alignement est améliorée par l'utilisation de l'interférométrie laser. CANON MPA 500 FA peut être programmé pour aligner plusieurs motifs de masque simultanément et peut être utilisé avec n'importe quelle source lumineuse. MPA 500FA a une source lumineuse avec une plage de longueurs d'onde de 365nm à 647nm. L'intensité lumineuse est réglable et le temps d'exposition varie de 0,1 ms à 1 minute. L'exposition est déclenchée à partir d'une entrée TTL ou d'un dispositif monostable intégré. MPA-500FA est automatisé et contrôlé par un microprocesseur 8 bits. Il a une variété d'options d'E/S et de communication, comme RS-232, GPIB et Ethernet. La machine est également compatible avec CANON LMS-III (Laser Micromachining System). Le mode d'exposition est semi-automatique, avec des niveaux d'exposition et des retards déterminés par l'utilisateur. En tant que système de lithographie optique, CANON MPA 500FA a une profondeur de focalisation de 0,15 microns ou mieux et peut gérer des structures très fines. Sa résolution est supérieure à celle des autres aligneurs de masques, ce qui permet une plus large gamme de structures. La taille des structures qui peuvent être modelées est également plus grande, ce qui permet des dispositifs à plus grande échelle. Dans l'ensemble, CANON MPA-500FA offre une grande précision et répétabilité pour l'alignement des masques et la lithographie optique. Il est adapté pour la fabrication et le test d'une large gamme de structures 3D à haut rapport d'aspect, y compris MEMS, microfluidiques, et les dispositifs à petite échelle. Il fournit une excellente résolution et une profondeur de focalisation tout en étant facile à utiliser et à programmer.