Occasion CANON MPA 500FA #9226337 à vendre en France

CANON MPA 500FA Mask Aligner est un outil de précision conçu pour produire des microstructures haut de gamme avec une précision et une cohérence maximales. Il facilite les processus critiques qui impliquent le transfert de motifs lithographiques vers des plaquettes, comme la photolithographie, et le transfert d'images. Cet outil convient à diverses industries, dont les semi-conducteurs, l'optoélectronique, la microélectronique, la microfluidique et la biomédicale. La machine est équipée d'un système de mouvement 5 axes aligné avec précision, permettant des performances rapides et précises. Sa surface de travail standard est de 500 mm x 500 mm, ce qui peut être étendu jusqu'à 1500 mm. CANON MPA-500FA offre des fonctionnalités de productivité avancées, telles que l'auto-charge/déchargement, l'auto-alignement et l'alignement à grande vitesse. De plus, il dispose d'un système de contrôle intuitif, ainsi que d'un alignement laser sans pas et sans balayage. Cet outil fournit des opérations de configuration automatisées via une interface conviviale intégrée. Il dispose également d'une caméra intégrée qui prend en charge l'imagerie optimisée et les capacités d'inspection de masques numériques en plein cercle. De plus, le MPA 500 FA est équipé d'un système de revêtement antireflet de substrat dédié qui offre un contraste d'image amélioré. D'autres caractéristiques de la machine comprennent la compatibilité avec divers formats de lithographie tels que les types optiques et de faisceaux d'électrons. Il est également livré avec des contrôles optimaux d'optimisation de l'exposition qui tiennent compte des variations de paramètres, ainsi que la capacité d'auto-focus en temps réel et la comparaison multi-image. En outre, il est équipé de masques à balayage rapide qui permettent une exposition rapide sans compromettre la précision. Dans l'ensemble, le CANON MPA 500 FA est un outil très sophistiqué et facile à utiliser conçu pour produire des microstructures de haute qualité et haute résolution avec une précision et une cohérence maximales. Il aide à réduire considérablement le temps de traitement du substrat tout en assurant d'excellents résultats.