Occasion CANON MPA-600/500 #293606556 à vendre en France
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ID: 293606556
Mask aligner
CTC Unit
Thermocouple probe
Hose, 6"
Lamp cooling fan
Hoses
Metal elbow.
CANON MPA-600/500 Exposure Equipment est un système d'exposition fiable et à haute puissance conçu pour une variété de procédés photolithographiques. L'unité est composée d'une tête d'exposition multiple avancée, d'un contrôleur d'exposition, d'un étage mécanique de haute précision et d'une table à vide. La tête d'exposition est équipée de deux volets de lampe, de plaques de chicane réglables avec précision, et d'une machine d'entretoisement d'obturation qui assure une seule exposition à la fois. Le contrôleur d'exposition est la composante la plus importante de l'outil. Il prend en charge les commandes de l'utilisateur et contrôle le processus d'exposition. Il peut ajuster la position, les temps d'exposition, les niveaux d'énergie et les chevauchements d'exposition multiples. Il détecte également les conditions hors limites et permet des fonctionnalités de fonctionnement spéciales. Le contrôleur d'exposition dispose de dispositifs de sécurité automatiques qui arrêtent les expositions lorsque certains critères prédéfinis ne sont pas respectés. L'étage mécanique de précision est conçu pour assurer un positionnement précis de la plaquette, et s'assurer qu'elle est bien maintenue en place pendant le processus d'exposition. L'étage utilise des codeurs linéaires et rotatifs pour mesurer et contrôler avec précision sa position. Il peut également être programmé pour permettre des décalages d'axes d'exposition multiples. La table à vide, qui est située au-dessus du contrôleur d'exposition, est chargée de positionner et de saisir solidement la plaquette pendant le processus d'exposition. Il est également capable d'appliquer une exposition uniforme sur toute la surface de la plaquette. Le tableau est contrôlé en température et étanche au vide, assurant que l'air et l'humidité n'interfèrent pas avec le processus d'exposition. Le MPA-600/500 Exposure Asset est la solution parfaite pour les procédés photolithographiques qui nécessitent une exposition précise des plaquettes de grande taille. Sa combinaison de composants avancés assure des expositions précises conformes aux normes actuelles de l'industrie. Le modèle est testé à fond et fait confiance aux principaux fabricants mondiaux de semi-conducteurs.
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