Occasion CANON MPA 600 FA #9144946 à vendre en France

CANON MPA 600 FA est un aligneur de masque de pointe qui est utilisé pour la photolithographie et le tissage de plaquettes. Ce type d'alignement permet de créer des motifs précis à utiliser dans les puces semi-conductrices, les MEM, les LED et presque tous types de microfabrication. CANON MPA600FA possède une taille de substrat de 320 mm, une précision optique maximale, une haute résolution, une grande précision et une productivité élevée. Sa vitesse est également augmentée grâce à la grande précision de son équipement de commande de mouvement à 5 axes. La grande précision de la machine garantit que les motifs peuvent être reproduits avec précision à chaque étape du processus de fabrication. Le système de commande de mouvement à 5 axes améliore également la précision et fournit une rétroaction en temps réel pour régler le processus. Il est conçu avec une technologie exclusive d'élément optique diffractif (DOE) pour améliorer la précision de placement de l'image dans la photolithographie et la fixation des plaquettes. La technologie DOE utilise un ensemble d'optiques très précises, qui aident à créer des motifs qui peuvent être dupliqués très précisément d'une plaquette à l'autre. MPA-600FA dispose d'un moniteur LCD numérique couleur haute résolution, qui fournit à l'utilisateur une interface facile à utiliser pour surveiller l'ensemble de l'opération. En outre, il est livré avec une unité d'alignement laser intégrée pour le placement rapide et précis du substrat. Cette machine permet à l'utilisateur d'aligner le motif de puce sur le masque en une seule étape puis de reproduire la position du motif plusieurs fois. Le MPA 600 FA dispose également de plusieurs fonctions automatiques, dont le balayage multiple, la sélection des longueurs d'onde et l'optimisation de l'exposition. Ces fonctions améliorent l'efficacité globale et la précision de la fixation. Dans l'ensemble, CANON MPA-600 FA permet la microfabrication de micro-motifs de haute qualité et augmente le débit et la précision de la photolithographie et de la fixation des plaquettes. Ses caractéristiques en font un choix idéal pour les applications avancées de photolithographie et de fabrication de plaquettes.