Occasion CANON MPA 600 Super #293606918 à vendre en France
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CANON MPA 600 Super est un aligneur de masque avancé qui est utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Il est capable d'aligner un large éventail de matériaux avec un haut degré de précision. Les caractéristiques qui rendent CANON MPA600SUPER si puissant comprennent un microscanneur avec une résolution de 5 nanomètres, de multiples sources d'exposition, et un équipement d'enregistrement en boucle fermée très précis. MPA-600SUPER est un système entièrement automatisé d'alignement de masque qui peut être utilisé pour aligner différents types de matériaux de masque, y compris le métal, le polyimide et le quartz. Il utilise un scanner au microscope avec une résolution de 5 nanomètres qui assure un alignement précis entre le masque et la plaquette. CANON MPA-600SUPER peut être utilisé dans la production de différents types de puces, y compris les puces de logique, de mémoire et de processeur haute vitesse. Il est conçu pour la production de masse et le prototypage, avec un débit allant jusqu'à 25 wafers par heure. Les multiples sources d'exposition disponibles sur la machine, y compris une source de lumière UV, le rendent adapté à de multiples types d'applications de lithographie, y compris le contact, la projection et les processus frontaux et latéraux. MPA 600 Super comprend une unité d'enregistrement en boucle fermée qui est utilisée pour aligner avec précision le masque et la plaquette. La machine d'enregistrement est composée de deux ensembles de codeurs optiques et d'un codeur linéaire qui travaille en liaison avec le scanner au microscope pour enregistrer précisément chaque position du masque et de la plaquette l'un par rapport à l'autre. Ceci permet d'assurer une position précise du masque par rapport à la plaquette, ce qui est essentiel pour des procédés de lithographie répétables. En plus de ses capacités avancées d'alignement des masques, CANON MPA-600 SUPER offre également une variété d'autres fonctionnalités, telles qu'un outil d'exposition intégré, un auto-focus et un auto-calibrage, et un atout auto-corrigeant auto-alignement. Le modèle d'exposition peut être utilisé pour exposer rapidement et avec précision la plaquette aux paramètres requis, tandis que l'équipement auto-focus permet de s'assurer que les paramètres d'exposition sont en permanence conformes à l'exposition prévue. MPA-600 SUPER peut être utilisé pour produire une large gamme de puces dans des volumes élevés. Sa conception compacte le rend bien adapté aux projets de recherche et développement, puisqu'il peut être rapidement déployé en laboratoire ou en ligne de production. Sa résolution de 5 nanomètres, son débit élevé et son système d'alignement précis en font une solution puissante d'alignement des masques.
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