Occasion CANON MPA 600 Super #9179483 à vendre en France

CANON MPA 600 Super est un aligneur de masque haute précision et haute vitesse produit par CANON. Ce dispositif est principalement utilisé pour diverses inspections de masques, exposition de photomasques et traitement optique de photorésist, tels que traitement d'exposition optique et alignement optique pour la fabrication de dispositifs semiconducteurs. La structure de base de CANON MPA600SUPER est composée de quatre parties principales : le positionneur optiquement stratifié, la configuration maître-esclave, l'équipement d'éclairage et le système de refroidissement. Il peut être utilisé dans différentes tailles de plaquettes allant de 4 pouces à 12 pouces. Le positionneur optiquement laminé de MPA-600SUPER est conçu pour maintenir fermement les plaquettes en place pour des processus tels que l'exposition à la lumière, la poussière, les rayures et d'autres contaminants. Il est équipé d'un étage de montage optique qui est capable d'un alignement précis et précis pour une lithographie optique exigeante nécessaire à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. La configuration maítre-esclave du dispositif est utilisée pour contrôler le mouvement du positionneur feuilleté optiquement. Il s'agit d'une unité de commande mécanique avancée conçue pour localiser la plaquette de manière extrêmement précise, même lors des opérations d'échange de photomasques. Cette précision garantit la précision et la répétabilité des étapes du processus. La machine d'éclairage installée dans CANON MPA-600SUPER est faite de lampes au xénon haute puissance et de sources lumineuses DUV Deuterium. La source lumineuse fournit une intensité d'exposition uniforme et reproductible sur toute la zone du photomasque et est idéale pour des motifs de lithographie même complexes avec de multiples niveaux de résolution. Le dispositif comporte également un outil de refroidissement intégré dans celui-ci pour maintenir la température de la chambre à plasma dans la plage de fonctionnement. Cela aide à fournir des conditions de processus stables tout au long du processus d'exposition. Dans l'ensemble, MPA600SUPER est un atout intégré fournissant une plate-forme stable pour l'inspection des masques, l'exposition aux photomasques et les processus de photolithographie. C'est une solution idéale pour les procédés de fabrication et de test des semi-conducteurs.