Occasion CANON MPA 600 Super #9240097 à vendre en France
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ID: 9240097
Style Vintage: 1991
Mask aligner
Infrared wafer detection
Wafer pre-align unit
Does not include TVAA parts
1991 vintage.
CANON MPA 600 Super est un équipement sophistiqué de microfabrication utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs. C'est un aligneur de masque, c'est-à-dire qu'il est utilisé pour aligner et exposer avec précision des photomasques sur des plaquettes revêtues de photorésist. CANON MPA600SUPER a un grossissement optique de 40X à 100X, une précision supérieure à 30nm et des capacités d'alignement en 4 dimensions (X, Y, θ et Z). Cela permet à l'alignement du masque d'effectuer l'alignement du photomasque avec une précision nanométrique sur un large champ de vision. Pour assurer un alignement précis et une exposition uniforme, cette machine est équipée d'un étage de haute précision, de lentilles à diffraction limitée, d'une séparation du faisceau et d'une ouverture optique originale pour la correction de l'aberration. MPA-600SUPER utilise également la technologie d'imagerie numérique ligne/espace qui corrige les erreurs d'alignement et double la résolution ligne/espace. En outre, cette machine est équipée d'une source lumineuse à haute intensité d'halogénure de mercure. Cela permet une exposition à haut débit et un temps d'exposition chevauché court pour l'imagerie haute définition. Le MPA 600 Super offre également une manipulation avancée des plaquettes, y compris un système de gestion des plaquettes qui utilise un mécanisme de contrôle de déformation de l'étage des plaquettes, un mécanisme d'aspiration des plaquettes et un système d'auto-élévation conçu pour minimiser la contamination. Cette machine offre également des caractéristiques de sécurité avancées comme un verre antireflet et un capteur de lumière réfléchi pour détecter la présence de tout matériau sur le photomasque. MPA600SUPER a également un contrôle précis de la dose d'exposition et un système d'arrêt automatique qui assure la prévention de la surexposition du photomasque. Ensemble, ces caractéristiques font de MPA-600 SUPER un outil idéal pour produire une large gamme de dispositifs semi-conducteurs avec une très grande précision et fiabilité.
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