Occasion CANON MPA 600 Super #9316594 à vendre en France
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Vendu
ID: 9316594
Taille de la plaquette: 4"-6"
Mask aligner, 4"-6"
Mask size: 5"-7"
Astigmatism: < 2.0 µm
Method: Measure vertical and horizontal
Focus: < ± 2.0 µm
Method: Deviation using tilting mask
Uneven focus: < 2.0 µm
Intensity: > 550 mW / cm²
Input: 1.8 kW
Uniformity: < ±3%
Method: 11 Points measure integrated intensity in CANON IUC-M3
Distortion: [MX] ≤ 0.4 µm, [MY] ≤ 0.4 µm, [DR] ≤ 0.3 µm
Method: DR Mask and wafer
Exposure performance:
Exposure field: R 95 mm
Resolution: 1.4 µm or less
Exposure wavelength: 365 nm (L), 405 nm (H), 436 nm (G) Line complex wavelength
Reduction ratio: X1
D.O.F: ± 6 um (1.5 µm line and space)
Illuminator:
Light source: 2.0 kW Super high pressure mercury lamp
Intensity: 550 ± 50 mW
Uniformity: ±3% or less
Wafer alignment:
Alignment light source: He-Ne Laser (633 nm)
Alignment system: LBS (He-Ne Laser scan AA)
Alignment accuracy (3δ): 0.54 µm or less
Scanning mechanism:
Scan drive unit: Scanning the carriage unit by DC motor drive
Scan range: 6" (160 mm), 5" (141 mm), 4" (119 mm)
Scanning speed: 5 to 150 sec (25 mm/sec - 0.83 mm/sec)
Alignment scope:
Viewing scope light resource: Halogen lamp
Erector lens:
Viewing lens: Manual moving
Erector: 1x, 2x, 3x
Mechanical pre alignment:
Pre alignment accuracy (Range): Φ 100 µm or less
Elbow with exhaust fan
Covers missing.
CANON MPA 600 Super est un alignement parallèle entièrement automatisé (alignement de masque) de photomasques, réticules et photorésistes liquides opaques. Il dispose d'un équipement d'alignement de réticules et de photomasques très précis et peut être utilisé pour le traitement à haut rendement des réticules utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, de LCD et d'autres composants électroniques. En utilisant la technologie exclusive CANON d'alignement des sous-microns, CANON MPA600SUPER produit un alignement précis avec une précision maximale. Sa précision d'alignement unique, un facteur essentiel pour réussir un traitement à haut rendement, est évaluée à 1 µm ou mieux. Le système dispose également d'une recette d'alignement tridimensionnelle qui peut être utilisée pour effectuer différents types d'alignement, de linéaire à rotationnel, pour répondre à des conceptions compliquées de masques. L'optique polyvalente de MPA-600SUPER dispose d'un grossissement et d'une résolution élevés, ainsi que d'une longue distance de travail. Cela permet à la machine d'accueillir une large gamme de substrats, de 3 pouces à 6 pouces, et des masques verticaux aux plaquettes épaisses et lourdes. En conséquence, il peut être utilisé pour une variété de processus de production de dispositifs. MPA-600 SUPER est livré avec une variété de fonctionnalités d'optimisation des performances d'alignement. Il s'agit notamment d'une fonction de profilage du masque pour surveiller l'état du masque et des matériaux du substrat réticulaire, d'un étalonnage de réglage de la barre lumineuse pour s'assurer que l'alignement de la barre lumineuse et les profils d'exposition sont cohérents, et d'algorithmes d'exposition du motif pour optimiser l'exposition et l'alignement pour la résolution correcte. L'outil peut également être intégré à différents types d'équipements, tels que des traceurs de plaquettes, des systèmes d'imagerie et des systèmes de manutention robotique, pour permettre une production complète. Cela permet un alignement rapide et automatisé du masque et du réticule, ainsi qu'un fonctionnement cohérent et fiable pour une production à haut rendement. MPA 600 Super est idéal pour les applications de production d'appareils nécessitant des résultats d'alignement rapides, précis et fiables. C'est un outil économique pour se conformer aux exigences rigoureuses de l'industrie des procédés de production de dispositifs, et il est largement utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs.
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