Occasion CANON PLA 500 FA #9105738 à vendre en France

CANON PLA 500 FA est un aligneur de masque entièrement automatique, conçu pour des applications telles que la photolithographie, la photomasque et le traitement de couches minces. Ce masque aligneur est équipé de plusieurs caractéristiques qui en font un choix fiable dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. La caractéristique la plus notable de CANON PLA 500FA est son haut degré de précision. Il est équipé de deux étages d'auto-alignement qui fonctionnent avec une précision inférieure à 0,1 microns. Cela lui permet d'aligner avec précision des masques sur des substrats tels que des plaquettes et d'autres composants avec une grande précision. Le masque aligneur est également équipé d'un équipement unique de manutention automatique de plaquettes. Ce système fournit un guidage précis pour un positionnement et un alignement précis des plaquettes dans la machine. L'unité assure également que les plaquettes restent totalement exemptes de contaminants. Il est intégré à une pince à plaquettes, ce qui permet de choisir facilement et de placer les plaquettes. PLA 500 FA dispose d'une machine d'alignement optique brevetée qui permet un enregistrement précis du masque et du substrat. L'outil optique est couplé à un contrôleur numérique pour une précision précise. Cet atout permet également l'utilisation de masques spéciaux avec des motifs peu profilés pour le masquage précis et la lithographie. L'alignement de masque peut facilement être intégré à n'importe quel environnement de salle blanche. Il est conçu avec un modèle de filtration des particules très efficace, fournissant trois étapes de filtration de l'air en salle blanche pour améliorer le contrôle des particules. L'équipement est également livré avec un revêtement antistatique pour protéger les machines contre les charges électriques parasites nocives, améliorant la fiabilité des machines. PLA 500FA est un aligneur de masque fiable pour un alignement précis du substrat et du masque, idéal pour des applications telles que la photolithographie, le masquage et le traitement de couches minces. Il dispose d'un haut degré de précision combiné à un système unique de manutention des plaquettes, et une unité de filtration des particules efficace qui est bien adapté pour les applications modernes de fabrication de semi-conducteurs.