Occasion CANON PLA 501 F #163560 à vendre en France

CANON PLA 501 F est un aligneur de masque de haute précision et économique pour la lithographie submicronique. Il est conçu pour fournir une excellente qualité d'imagerie et des rendements élevés pour les petites structures même en présence de petites erreurs de désalignement. L'équipement dispose d'un système d'exposition à l'image très efficace qui produit une exposition à haute résolution du motif à aligner et à transférer, permettant une haute précision du processus de lithographie submicronique. L'unité d'exposition utilise une tête d'exposition optique avancée qui optimise automatiquement les projections des motifs. Cela comprend l'inclinaison du faisceau, l'agrandissement de l'exposition et la zone d'exposition. Le niveau d'exposition et la qualité de l'image sont encore améliorés avec l'optique conjuguée pupille optimisée située dans la tête d'exposition. L'alignement optique conçu avec précision effectue un alignement et un enregistrement précis des motifs avec un minimum d'erreurs de désalignement. En utilisant un moniteur de résistance avancé, la machine peut compenser les effets de transformation para-axiale et/ou de motif. En outre, l'outil comprend un atout d'alignement, qui est équipé d'un traducteur piézo unique qui permet un alignement de haute précision. Pour améliorer encore la précision, le modèle comprend un équipement automatisé d'optimisation de l'alignement (AOS) qui utilise un processeur d'image dédié pour déterminer le meilleur alignement d'enregistrement possible. Le masque aligneur comprend également un système d'alignement de haute précision, qui peut supporter la plus grande précision de 0,25 micron alignement. Cette caractéristique d'alignement de haute précision permet un meilleur transfert des motifs de dispositifs montés vers le substrat, produisant un meilleur rendement et des motifs plus fins avec une reproduction haute résolution. L'unité peut également être utilisée pour des processus parallèles, ce qui peut améliorer le débit et réduire le temps de cycle pour les processus de lithographie submicronique. CANON PLA-501F offre une ergonomie améliorée et une automatisation plus rapide. Il comprend également un ventilateur intégré pour réduire les particules de poussière, ce qui permet un meilleur alignement et aucun nettoyage manuel supplémentaire de l'aligneur. En outre, la machine offre plusieurs fonctions logicielles qui peuvent être facilement configurées pour stocker les informations lithographiques. Cela peut aider l'utilisateur à se préparer rapidement au processus et à minimiser le délai. En conclusion, PLA 501F est un excellent choix pour la lithographie submicronique qui fournit une précision d'alignement précise, une qualité d'image satisfaisante et une automatisation améliorée. Il offre une solution rentable qui produit des rendements élevés avec un minimum d'erreurs de désalignement.