Occasion CANON PLA 501 F #293591834 à vendre en France
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ID: 293591834
Double side mask aligner
Manual
NEUTRONIX: IR Backside illumination
Mcroscope
Contact mode:
Hard
Soft
Proximity
Mask aligner operation:
Gases and vacuum
Hg lamp (USHIO 250W, Super high pressure mercury)
Check UV Calibration
Load photomask
Load wafer
Align wafer
Power.
CANON PLA 501 F est un adaptateur de masque de pointe conçu pour des applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de circuits intégrés (IC). Il offre une gamme de caractéristiques et de performances qui en font un choix idéal pour les processus de fabrication, y compris la photolithographie, la photomasking, la gravure et plus encore. CANON PLA-501F est conçu pour une production efficace d'appareils et d'IC, avec une grande surface de travail, un taux d'alignement rapide et une précision d'alignement précise et répétable. L'équipement utilise un laser d'alignement de grande puissance et intègre un mouvement de balayage complet pour un alignement ultra-rapide, et dispose d'un détecteur d'erreur de mise au point en boucle fermée qui assure des résultats précis à chaque fois. PLA 501F prend en charge les dimensions des photomasques jusqu'à 8 « x 10 », et la grande surface de travail du système permet une conception flexible et des options d'outillage. L'unité a un taux d'alignement rapide et précis pouvant atteindre 1 200 plaquettes par heure, et une précision d'alignement de ± 7 µm (± 1 µm dans un champ de 10 µm) à un pas de masque de 1,5 µm. CANON PLA 501F offre des résultats de haute qualité, avec une quantification de l'exposition de 0,1 µm de précision. PLA-501F offre également un temps d'exposition variable et des niveaux de résolution multiples pour différents modèles de masque pour produire une haute qualité d'exposition et la fiabilité. En outre, la machine dispose de fonctionnalités avancées telles que l'alignement statique et la capacité à accueillir différentes hauteurs, épaisseurs et tailles de masque. PLA 501 F dispose également d'une interface de contrôle, permettant aux utilisateurs de personnaliser et de définir des mises en page, des paramètres et plus encore. Enfin, CANON PLA 501 F intègre également des services tels que le transfert de données de pré-alignement par masque, l'évaluation de fin de ligne et la vérification des outils après exposition, afin d'assurer des résultats optimaux pour les processus de fabrication. En bref, CANON PLA-501F est un adaptateur de masque puissant et fiable offrant des performances de haute qualité, des taux d'alignement rapides et des options de zones de travail flexibles. C'est un choix idéal pour la photolithographie, la photomasking, la gravure et d'autres procédés de fabrication d'appareils et d'IC.
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