Occasion CANON PLA 501 F #293604248 à vendre en France

CANON PLA 501 F est un aligneur de masque conçu pour la production de masques photo utilisés dans les fabrications IC. Il dispose d'un auto-mécanisme d'alignement flexible et d'un équipement d'entrée d'image haute résolution avec trois méthodes de positionnement. Les motifs de masque désirés sont tracés directement sur le réticule et lus par l'aligneur de masque, qui produit alors un masque photo du même motif à trois fois la résolution du réticule. L'aligneur est capable de réaliser des masques photo de couche intérieure ou extérieure d'une taille maximale de 600 mm et d'une largeur de ligne minimale de 0,1 μ m. L'alignement est soutenu par le mécanisme de guidage linéaire et le système moteur pas à pas de haute précision. Il délivre une résolution maximale de 4 μ m, une précision de 0,5 μ m et une vitesse d'alignement de 100 μ m/sec. L'auto-mécanisme d'alignement flexible améliore la précision d'alignement masque à masque du dispositif, ainsi que son rendement de transfert de masque. L'unité utilise une grille d'alignement interne qui peut être ajustée pour correspondre à l'image de résistance. Cette grille est utilisée pour positionner avec précision le masque sur la plaquette, avec une précision de 40 μ m. La machine d'entrée d'image haute résolution est utilisée pour lire la couche masquée du masque photo, permettant une lecture d'image maximale de 30 µm. L'outil prend en charge l'entrée et la sortie manuelles, ainsi que l'automatisation via l'interface de communication. L'interface de communication permet l'échange de données de travail et de formats DSTEP/APPL pour les œuvres d'art masquées. Le dispositif est capable de supporter des plates-formes de plaquettes de 200mm et 300mm, est très flexible et peut facilement être configuré, calibré et entretenu. Le logiciel d'interface est facile à utiliser et offre une gestion complète des tâches. Le dispositif est capable de supporter un large éventail de processus de production, y compris avant et arrière, le rendant adapté à diverses applications telles que la fabrication de IC, la production de photomasques ou la réparation de dispositifs semi-conducteurs.