Occasion CANON PLA 501 F #66342 à vendre en France

CANON PLA 501 F est un aligneur de masque de haute précision utilisé pour les dispositifs semi-conducteurs de photolithographie. Il est conçu pour obtenir une précision de photorésistance de +/-1,0 μ m ou mieux et traite les résistances DUV, NUV et i-line. Cet aligneur de précision très fiable fournit une haute résolution et intégration pour une large gamme de dispositifs semi-conducteurs. CANON PLA-501F a une plage de température basse de -20 à + 350 degrés Celsius, ce qui le rend bien adapté aux processus sensibles à la température. L'aligneur utilise un interféromètre laser et un étage de plaquette de vide de précision qui permet une précision d'alignement ultra fine et une vitesse d'alignement rapide. Il utilise un système intégré d'inspection des défauts en temps réel avec des options de grossissement élevé et un système automatisé de manipulation des masques qui permet le chargement et le déchargement rapides des masques. PLA 501F est équipé d'une interface utilisateur avancée et d'une gamme complète de logiciels intégrés qui fournissent des capacités d'alignement automatique, de lissage des motifs, d'inspection et d'étalonnage des nuances de simulation. Cet alignement de masque prend en charge une variété de formats de données, y compris les fichiers AutoCAD DXF, Gerber et WSY, ainsi que OPL (Optical Proximity Layout) OPL et OPLX. Compatible avec les systèmes de photolithographie les plus populaires, PLA 501 F offre une excellente précision d'alignement pour une variété de procédés de production. CANON PLA 501F a un débit élevé, ce qui le rend adapté à la production à petite et grande échelle. Il a un faible coût de possession, y compris un entretien minimal et une faible consommation d'énergie. PLA-501F est livré avec une gamme polyvalente d'accessoires qui lui permettent d'être utilisé pour des processus manuels ou automatisés, augmentant la facilité d'utilisation du système et l'optimisation des processus. CANON PLA 501 F est conçu pour la flexibilité, la précision et l'efficacité. Son design robuste et sa fiabilité, associés à son alignement de précision, en font un excellent choix pour les processus de photolithographie. Avec son large éventail de fonctionnalités et de capacités de processus, CANON PLA-501F est un aligneur de masque leader sur le marché qui garantit des résultats précis dans un ensemble rentable.