Occasion CANON PLA 501 F #9265301 à vendre en France

CANON PLA 501 F est un aligneur de masque qui permet aux utilisateurs d'aligner et de transférer des motifs avec précision et rapidité sur des plaquettes semi-conductrices. Il s'agit d'un générateur automatisé de motifs de masques à semi-conducteurs, conçu pour assurer un alignement précis lors du transfert de motifs composés de différentes couches de matériaux sur des plaquettes. CANON PLA-501F peut traiter une large gamme de tailles de plaquettes, allant de 5 à 200 millimètres de plaquettes rondes. Il dispose également d'un équipement optique haute résolution, capable de produire des motifs superposés précis et reproductibles. Cette fonctionnalité élimine la nécessité de toute correction manuelle, qui finira par économiser du temps et des coûts. La machine est équipée d'un système de positionnement numérique, qui permet un alignement précis ainsi qu'un enregistrement automatisé pour plusieurs motifs. Cette unité fournit une grande précision dans l'alignement et la correction des motifs sur la plaquette, réduisant le besoin d'intervention humaine. La machine dispose également d'une large zone d'exposition qui permet aux utilisateurs de produire plusieurs motifs simultanément. Cela réduit le temps d'avance souvent associé aux aligneurs manuels traditionnels de masques. La machine est équipée d'une diode laser de forte puissance qui émet un maximum de 36mW d'éclairage UV, ce qui fournit des expositions extrêmement précises et répétables de motifs sur les plaquettes. En outre, PLA 501F permet aux utilisateurs de programmer une série d'expositions qui sont ensuite automatiquement exécutées, assurant des résultats fiables cohérents. Sa machine à faible vibration qui élimine toute interférence de vibration sur l'outil optique lors de l'exposition des motifs sur les plaquettes. En outre, la machine est équipée d'une alimentation intégrée qui assure un fonctionnement fluide et fiable tout au long du cycle d'exposition. Dans l'ensemble, CANON PLA 501F est un aligneur de masque efficace, fiable et facile à utiliser qui fournit une grande précision et répétabilité lors du transfert de motifs sur des plaquettes semi-conductrices. Ses caractéristiques avancées et sa conception en font un outil inestimable pour tout processus de production de semi-conducteurs.