Occasion CANON PLA 501 FA #163500 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque qui est utilisé pour un large éventail d'applications en photolithographie. Ce type d'alignement est un équipement essentiel dans la production de diverses pièces et composants dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est utilisé pour créer des expositions précises sur le film photomasque et pour transférer des caractéristiques des masques vers le matériau du substrat. Elle est essentielle pour obtenir des résultats précis dans la fabrication de nombreuses pièces électroniques, telles que celles que l'on trouve dans la réalisation de circuits intégrés et d'autres composants électromécaniques. Le dispositif est actionné selon un système de contrôle des erreurs d'alignement de haute précision qui permet d'obtenir un degré élevé de précision en utilisant une combinaison de techniques d'alignement autonome et manuel. Afin d'atteindre les niveaux de précision souhaités, la machine se compose de deux composants principaux : un projecteur point laser et un détecteur. Le projecteur laser permet à l'utilisateur de positionner les points de référence du masque, tandis que le détecteur balaye le masque pour vérifier la position et l'alignement exacts. Les points de référence sont ensuite utilisés pour calculer l'alignement exact à partir duquel est effectué l'alignement du matériau substrat. Les sources lumineuses utilisées avec cette machine sont typiquement d'un type sélectionnable en longueur d'onde et peuvent aller de l'ultraviolet à l'infrarouge. Ceci permet un alignement précis du masque sur le substrat même lorsque l'alignement des pièces n'est pas cohérent. En conséquence, la machine est adaptée à des processus de fabrication complexes et difficiles qui nécessitent le transfert de conceptions et de caractéristiques complexes. CANON PLA-501FA est équipé de plusieurs accessoires utiles dont un viseur photomasque et un moniteur qui affiche des informations importantes telles que les images d'alignement agrandies. En outre, le dispositif est livré avec un logiciel local dédié qui permet à l'utilisateur de contrôler le dispositif et les motifs d'entrée directement dans le dispositif. Cette fonctionnalité facilite grandement la création des motifs désirés. De plus, PLA 501FA possède plusieurs dispositifs de sécurité et est équipé de boucliers d'attente qui empêchent l'exposition accidentelle du personnel aux rayonnements au cours des opérations. Le dispositif fonctionne également de façon transparente avec une majorité de substrats et aide à atteindre un alignement de haute précision sur une gamme de matériaux. Dans l'ensemble, PLA-501 FA est un alignement de masque haut de gamme qui produit des résultats précis pour un large éventail d'applications en photolithographie moderne. Son contrôle précis de l'alignement, son fonctionnement efficace et sa variété d'accessoires font de cet appareil le choix idéal pour une gamme de procédés de photolithographie exigeants.