Occasion CANON PLA 501 FA #163565 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un adaptateur de masque de pointe spécialement conçu pour des applications de lithographie haute précision et à haut débit. L'équipement fournit une plate-forme de lithographie optimale pour la fabrication avancée d'appareils nano/micro-électroniques. CANON PLA-501FA est capable de fournir une précision d'alignement stable de 0,5µm sur l'ensemble du substrat, fournissant des mesures de dimensions critiques de sous-microns très précises pour les modèles d'appareils requis pour la prochaine génération d'appareils à circuit intégré. Le système intègre la technologie d'optique de projection unique CANON et permet une large gamme de matrices de chaîne arbitraires pour un alignement avancé de masque en 3 dimensions. La conception comprend un étage de niveau de plaquette de haute précision qui permet un emplacement précis de l'échantillon ainsi que la répétabilité de sous-microns. En outre, l'unité est entièrement compatible avec diverses étapes de résistance et d'exposition, telles que les UV doux et profonds, Iline, faisceau électronique, et lithographie analogique et numérique. PLA 501FA est alimenté par une machine de contrôle d'alignement complète capable d'effectuer jusqu'à 256 000 mesures d'alignement par heure. L'outil utilise un algorithme d'architecture ouverte pour contrôler le processus d'alignement et fournit des performances dynamiques exceptionnelles pour des processus d'exposition très complexes. Les systèmes de vision intégrés permettent une reconnaissance de motifs de haute précision, garantissant que seuls de petits détails sur la surface de la plaquette sont détectés et alignés avec précision. PLA-501 FA est capable de manipuler deux substrats de taille différente jusqu'à 8 pouces de diamètre et est très fiable, en raison de sa conception de faible entretien. En conclusion, PLA 501 FA est un outil puissant et fiable conçu pour répondre aux besoins de la fabrication de nano/micro-électronique. L'actif fournit une grande précision à un débit élevé et permet des matrices de chaîne arbitraires pour l'alignement des masques en 3 dimensions. La machine est capable de reconnaissance de motifs de haute précision et permet diverses étapes de résistance et d'exposition. PLA-501FA est le modèle parfait pour la fabrication avancée des applications nano/micro-électroniques les plus exigeantes.