Occasion CANON PLA 501 FA #293749121 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque avancé destiné aux procédés de photolithographie à semi-conducteur. L'équipement est principalement utilisé pour la fabrication de plaquettes ainsi que pour les processus d'emballage. Il est capable d'exposer avec précision et efficacité des trous de contact, des motifs de ligne fine et d'autres caractéristiques critiques. CANON PLA-501FA convient aux procédés utilisant la lithographie UV profond (DUV), la lithographie par faisceau électronique (e-faisceau), la résistance à la fusion et le traitement thermique. Le système dispose d'une unité d'alignement permanente qui est précis à 5 nm près, permettant une grande précision et répétabilité. Il est également capable de débit de substrat élevé et supporte des substrats jusqu'à 8 pouces de taille. L'étage de masque de la machine est capable de se déplacer à des vitesses élevées allant jusqu'à 15,6 m/s, ce qui signifie qu'il peut exactement aligner et exposer de grandes surfaces en peu de temps. Il prend également en charge les processus automatisés post-exposition et post-bake pour simplifier le flux de travail. L'outil utilise un traitement tridimensionnel de détection de focalisation laser pour s'assurer que les alignements sont précis au besoin. PLA 501FA dispose d'un actif de transfert standard FPD haute vitesse qui peut rapidement transférer des substrats sans rayures ou désalignements. Le modèle est équipé d'un équipement d'aplatissement de champ numérique qui assure une grande uniformité sur l'ensemble du substrat sans sacrifier la productivité. Le système est conçu avec une nouvelle étape d'alignement offrant une zone d'exposition élargie et une meilleure planéité du substrat. Il peut traiter des motifs avec une largeur de raie minimale de 30 nm, ce qui le rend adapté aux processus de microfabrication. L'utilisateur LCD couleur, interface permet un fonctionnement pratique et fournit des commentaires sur la correction et la configuration des erreurs. Dans l'ensemble, PLA 501 FA est une unité de photolithographie fiable, précise et efficace. Ses caractéristiques avancées, sa productivité et sa répétabilité en font un choix idéal pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. C'est un choix idéal pour tout processus nécessitant une lithographie précise, répétable et ultra-petite échelle.