Occasion CANON PLA 501 FA #293749123 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un type d'alignement de masque le plus couramment utilisé en photolithographie. Cet outil est conçu pour transférer des motifs prédéfinis sur une surface ou un matériau avec une grande précision. Il est utilisé pour transférer des agencements de circuits sur des plaquettes semi-conductrices, ou pour traiter des matériaux photorésistants sensibles à la lumière et pouvant être utilisés pour former les composants réels de puces de circuits intégrés. Ce type d'alignement de masque est une solution compacte et économique par rapport à des modèles plus sophistiqués et est donc généralement utilisé dans les laboratoires de recherche et les milieux universitaires. CANON PLA-501FA est un pas, c'est-à-dire qu'il peut faire un pas entre les expositions et une étape d'alignement afin de maximiser la précision sur des motifs très répétitifs. Il est équipé de deux systèmes de caméra haute résolution qui permettent un alignement et un enregistrement précis. Les systèmes de caméra disposent d'autofocus et de capacités de réglage précis pour garantir un alignement précis des images et une qualité d'image. L'alignement du masque est alimenté par un équipement optique de balayage de précision. Ce système utilise une paire de miroirs galvanométriques montés à un étage de haute précision. Ces miroirs sont commandés électroniquement pour déplacer le balayage et l'optique d'exposition avec précision, affichant des motifs précis sur le substrat pour un processus d'impression précis. L'unité d'analyse et d'exposition sur PLA 501FA a généralement une empreinte maximale de 1300 x 1300µm pour l'alignement des motifs détaillés. Cette machine comprend un outil d'alignement auto-focalisé pour minimiser le temps d'exposition et améliorer la précision. L'actif d'alignement auto-focalisation mesure avec précision le foyer à chaque exposition, ajustant constamment la puissance du faisceau et produisant éventuellement le foyer requis. Un arrêt programmable peut être programmé pour assurer des points de départ et d'arrêt précis à chaque exposition. L'exposition du masque peut également être ajustée indépendamment pour contrôler la forme et la taille du motif. CANON PLA-501 FA peut être interfacé avec un PC pour faciliter le chargement et le déchargement automatiques des substrats tout en maintenant la précision de programmation. Cet aligneur est également équipé d'un modèle de contrôle de la température et de l'humidité qui maintient les substrats dans les bonnes conditions pendant l'exposition. Cet équipement peut être adapté à une variété de substrats différents, dont certains comprennent la résine, le silicone, la céramique, le verre et le plastique. Ce masque aligneur est livré avec des caractéristiques qui en font un choix préféré pour la microfabrication dans les laboratoires de recherche et d'enseignement. Sa taille compacte et sa solution économique en font un choix privilégié pour les chercheurs qui n'ont pas besoin de modèles plus grands et plus sophistiqués. Avec son optique précise et sa capacité d'alignement très précise, PLA-501 FA est un choix fiable et professionnel pour la photolithographie et la microfabrication.