Occasion CANON PLA 501 FA #293749124 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque haute performance capable de fournir un alignement précis et fiable des motifs dans les processus de photolithographie. Le dispositif est un aligneur polyvalent et avancé qui peut gérer une large gamme de substrats et de résistances. Il est capable de réaliser à la fois l'imagerie directe et les processus basés sur le masque sans équipement supplémentaire requis. CANON PLA-501FA est équipé d'une distance de travail de 630 mm, d'une précision répétable jusqu'à 0,2um et d'une taille de plaquette maximale de 200mm. L'appareil a également une zone active de 12 pouces avec une plage de zoom d'au moins 8x. Il a une taille de champ standard de 7,250 x 5.250 pouces et un équipement auto-focus intégré pour fournir un alignement précis du masque et de la résistance. Le dispositif utilise des sources G-line (430nm) et I-line (365nm) pour l'exposition et a une vitesse d'alignement maximale de 0,05 ms par prise de vue. Il dispose également de modes d'imagerie directe qui sont capables de fournir une exposition unique, multi-exposition, image de fantôme, et des processus d'exposition de fantômes. L'appareil dispose d'une interface utilisateur graphique facile à utiliser avec une programmation de recette flexible, un logiciel PC à distance et un serveur Web pour la mise en réseau du système. Il dispose d'une unité intégrée de surveillance HIAC pour les résultats des processus. En outre, l'appareil dispose d'une large gamme de plates-formes de cuisson post-exposition permettant de tester différentes épaisseurs de résistance avec un seul appareil. Il dispose également d'une machine d'alignement de plaquettes qui réduit le nombre de masques nécessaires lors du processus de photolithographie. En conclusion, PLA 501FA est un outil puissant et performant capable de réaliser des processus de photolithographie de haute précision. Il dispose d'un large éventail de fonctionnalités et d'outils tels que l'imagerie directe, multi-exposition, G-line et I-line sources, outil de surveillance HIAC, et un atout d'alignement de plaquettes, ce qui en fait un excellent choix pour un alignement de masque.