Occasion CANON PLA 501 FA #293757355 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque conçu pour être utilisé en photolithographie pour fabriquer des structures électriques. Ce dispositif est utilisé pour l'impression précise de structures à motifs complexes sur des matériaux semi-conducteurs incluant le silicium et l'arséniure de gallium. Il utilise un équipement d'alignement optique programmable pour aligner avec précision le photomasque sur la pièce. Cet alignement précis permet une impression précise des structures à haute résolution. CANON PLA-501FA est un système programmable avec une large gamme de paramètres. Il peut être utilisé pour ajuster le temps d'exposition, le foyer et l'alignement du masque pour assurer le placement précis de la photomasque. Cette unité comprend également un étage de palier à air avec un alignement fin et grossier qui peut faciliter l'exposition par pas, permettant ainsi la réalisation de motifs de surface multi-niveaux. En plus de ses capacités précises d'alignement des masques, cette machine comprend également un outil d'exposition avancé qui peut être utilisé pour optimiser la dose d'exposition et l'uniformité. Il dispose d'une longue gamme d'exposition, de 10mJ/cm2 à 3,000mJ/cm2, ce qui permet un large éventail d'exigences d'exposition. L'actif d'exposition inclue également une étape d'étalonnage uniforme, fournissant une exposition précise et répétable pour une exposition sur couche compliquée. PLA 501FA intègre également des logiciels qui peuvent être utilisés pour concevoir le motif de masque. Ce logiciel permet la création de structures complexes et détaillées avec un large éventail de règles d'optimisation. Une fois conçu, le motif peut être imprimé avec précision sur le substrat, avec un alignement et une exposition précis. PLA-501FA est un modèle polyvalent et puissant, idéal pour la photolithographie de précision. Ses réglages programmables, sa précision d'alignement et son étalonnage uniforme, ainsi que son logiciel de conception de motifs, en font un dispositif attrayant pour une utilisation industrielle et en laboratoire.
Il n'y a pas encore de critiques