Occasion CANON PLA 501 FA #293763589 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque à alignement assisté laser plein champ (FA) avec une taille de couche fonctionnelle de 12 microns et une résolution d'étape de 12,5 nanomètres. Cet aligneur de masque est adapté à la photolithographie haute résolution, ainsi qu'à une fabrication ultra précise. Une des principales applications de l'alignement de masque CANON PLA-501FA est la fabrication de circuits intégrés (IC). Il est largement utilisé dans les procédés de lithographie semi-conductrice, car son vaste domaine de travail, sa focalisation en plein champ et ses capacités de haute précision facilitent la fabrication d'IC à haute performance. PLA 501FA dispose d'un étage X-Y de 25 points, de six positions d'alignement actif et de deux changeurs de masque. Cela permet un alignement parallèle et une capacité de fixation, augmentant considérablement le débit et améliorant la productivité globale. La taille des taches de 12 microns du masque garantit une résolution et une précision ultra élevées, tandis que la résolution des pas de 12,5 nanomètres fournit la précision et la répétabilité requises pour les tâches d'application avancées. PLA-501 FA est un système robuste et fiable avec plusieurs fonctionnalités puissantes, y compris un analyseur de traces intégré et une interface utilisateur graphique. L'analyseur de traces permet de visualiser les topographies des motifs, tandis que l'interface utilisateur simplifie le fonctionnement. Le système a un courant photo élevé, permettant une exposition à haute dose des photomasques sans aucune distorsion d'accompagnement. Cela permet d'obtenir d'excellents résultats avec un désalignement et une distorsion minimes. CANON PLA-501 FA est en outre équipé d'un alignement optionnel d'élément de protection numérique sur axe (OPE), qui permet un alignement précis d'élément de protection numérique (OPE) lors du transfert de données de conceptions IC vers des motifs de plaquettes. Cela garantit que les données sources et cibles peuvent être transférées sans faille tout en restant exactes tout au long du processus de photolithographie. PLA-501FA est compatible avec une large gamme de photomasques et de résistances, et peut gérer une variété d'applications de photolithographie. Il dispose également d'une capacité d'alignement intelligente, réduisant le temps et l'effort requis pour l'alignement manuel. Dans l'ensemble, CANON PLA 501FA est conçu pour une haute résolution et précision, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de lithographie. Ses caractéristiques robustes, ses capacités puissantes et ses multiples fonctionnalités en font un aligneur de masque fiable et très efficace pour tous les besoins de fabrication d'IC.