Occasion CANON PLA 501 FA #9030659 à vendre en France

L'aligneur de masque CANON PLA 501 FA est un équipement de photolithographie très précis et économique conçu pour des applications avancées d'emballage et de montage de puces. Le système dispose d'un grand champ de vision (FOV) de 310 × 310 mm et d'une lentille pas à pas haute résolution de 0,125 μ m pour assurer un positionnement et un alignement précis des substrats. L'unité dispose également de deux étages de substrat indépendants avec des traîneaux de 8 "et 12" pour accueillir des substrats jusqu'à 24 "de diamètre, permettant un chargement/déchargement rapide et facile du masque, le mouvement du substrat et le réglage de la focale. La conception opto-mécanique avancée de la machine et l'opto-électronique haute performance se traduisent par des vitesses d'exposition rapides et un alignement précis pour des rendements constamment élevés de paquets avancés ou de puces grand format. Pour mesurer la précision, l'aligneur de masque CANON PLA-501FA est équipé d'un outil d'alignement automatique des plaquettes (AWA), intégrant un algorithme avancé qui tient compte des variations de forme ou des irrégularités de surface du matériau masque/substrat. Ceci assure un alignement précis et précis du masque pendant l'exposition. De plus, l'interface utilisateur graphique (UI) facile à utiliser permet aux utilisateurs d'ajuster rapidement et facilement les paramètres de lithographie pour optimiser les temps d'exposition et compenser les erreurs du modèle. PLA 501FA dispose également d'un interféromètre laser optionnel qui peut améliorer à la fois la précision du positionnement et le temps d'exposition, garantissant des résultats de la plus haute qualité. Parmi les autres caractéristiques de CANON PLA 501FA, mentionnons une procédure d'entretien simplifiée, une minuterie de nettoyage et un contrôle ajustable de la dose d'exposition. La procédure de maintenance comprend l'arrêt et le redémarrage automatiques, garantissant que l'équipement est toujours en parfait état. La minuterie de nettoyage peut également être réglée pour prendre effet à tout intervalle régulier préféré, de sorte que le système reste toujours propre et exempt de toute saleté ou résidu. Le contrôle ajustable de la dose d'exposition permet d'affiner le temps d'exposition, ce qui permet d'obtenir des images de qualité hautement reproductibles. PLA 501 Alignement de masque FA est un outil précieux qui peut être utilisé pour produire rapidement et avec précision des images haute résolution pour des applications avancées de montage de paquets et de puces. Sa grande FOV, son optique haute résolution, sa précision de frappe avancée et sa facilité d'utilisation en font un choix idéal pour de nombreuses conceptions de semi-conducteurs/puces.