Occasion CANON PLA 501 FA #9159256 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
CANON PLA 501 FA est un alignement de masque plein champ qui offre des performances optiques optimales pour les applications de microfabrication. L'aligneur de masque convient pour la fixation de couches d'oxyde sur une grande variété de substrats dont des plaquettes de 3-8 pouces, des substrats de quartz et des substrats de verre. L'alignement du masque présente une précision d'alignement globale de ± 0,2 um, un réglage fin des pixels et une lentille de condenseur à ouverture numérique élevée qui permet une imagerie de haute précision du masque tout en maintenant un contraste élevé. Le 501 FA dispose d'un équipement d'auto-indexation personnalisable à huit plaques qui permet un alignement précis des plaques à motifs multiples. Le 501 FA est équipé d'un contrôleur numérique de pointe qui assure un contrôle précis des paramètres d'alignement. Ce contrôleur dispose de compensations de décalage de motifs numériques et de commande d'obturateur automatique qui permet une exposition plus précise des plaquettes lors des processus d'alignement et de lithographie. Ce contrôleur numérique permet également d'ajuster les paramètres du processus, y compris la focalisation, le défocus, l'éclairage, l'exposition et la vitesse des plaquettes. La fonction d'étalonnage et d'alignement automatisé favorise en outre l'alignement précis et répétable des motifs de masque. Le 501 FA est également équipé d'un système de détection d'image à haute sensibilité qui permet d'améliorer l'alignement et la précision lithographique. Cette unité est capable de reconnaître même les plus petites caractéristiques avec une résolution de 1um ou moins. Cette machine de détection d'image offre un meilleur contraste, une adaptation des couleurs et un contrôle de l'ombre, permettant un alignement des motifs extrêmement précis. Le masque aligneur est également équipé d'un laser Erbium pour l'alignement sans illumination des plaques de motif. Cela élimine le besoin d'une source lumineuse externe tout en offrant une productivité, une répétabilité et une précision améliorées lors des processus d'alignement et de lithographie. Le laser Erbium est également capable de contrôler précisément l'intensité et la longueur d'onde du faisceau pour un fonctionnement optimal dans diverses applications. La 501 FA est également équipée de dispositifs de sécurité automatique avancés. Ces caractéristiques comprennent la détection de poussière, la commande de chauffage des puces, et l'automatisation de l'obturateur pour améliorer la sécurité pendant le fonctionnement. Le 501 FA est également équipé d'un outil d'autofocus de 40 points qui offre des performances d'imagerie améliorées tout en minimisant le nombre d'opérations manuelles requises. Globalement, l'alignement de masque CANON PLA-501FA est une solution idéale pour des processus d'alignement et de lithographie précis. Cet aligneur polyvalent de masque plein champ est capable de contrôler avec précision les paramètres d'alignement, offrant une précision, un contraste et une résolution améliorés pour différents types de processus de fabrication de plaquettes. Les fonctionnalités automatisées, la détection d'images, le laser Erbium et les dispositifs de sécurité avancés favorisent la sécurité, l'efficacité et la répétabilité lors des processus de microfabrication.
Il n'y a pas encore de critiques