Occasion CANON PLA 501 FA #9190949 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque de haute précision conçu pour la production de dispositifs microélectroniques et d'autres applications de photolithographie. Il est alimenté par un système de nanopositionnement avancé et des moteurs pas à pas haute résolution, qui permettent d'aligner rapidement et avec précision les masques de photolithographie sur le substrat. L'aligneur dispose d'une grande précision d'alignement, avec la capacité de s'inscrire à +/-2µm ou mieux dans les deux directions x et y. CANON PLA-501FA est équipé d'une étape de 5 "qui est calme et rapide à se déplacer. Il peut supporter une taille de substrat jusqu'à 6 ", et est livré avec un chargeur de substrat automatisé. Il a un champ de vision total de 5.12 ", ce qui lui donne un champ de vision impressionnant à la fois pour l'alignement et l'exposition. Le champ de vision est complété par une précision de lecture de 0,01 µm. PLA 501FA dispose d'un système optique à travers la lentille qui permet un alignement sans contact, contact et interférence. Ceci permet un alignement précis même lorsqu'il y a une différence entre les tailles de masque et de plaquette, ainsi que des épaisseurs de substrat variables. PLA-501FA offre des systèmes d'éclairage optimisés qui fournissent une source lumineuse omnidirectionnelle, de faible intensité, ou un spot très concentré, selon l'application. Ceci permet un meilleur éclairage du substrat et du masque et une meilleure précision d'alignement. De plus, le masque aligneur dispose d'un système de déplacement automatisé du masque qui aide à réduire les erreurs d'alignement maculaire qui peuvent survenir pendant les opérations d'exposition. CANON PLA-501 FA est également équipé d'une technologie brevetée de réalignement qui permet de stocker l'image d'alignement pour une utilisation ultérieure, ce qui facilite la répétition de l'alignement. Cette fonctionnalité élimine également le besoin de configurations manuelles d'alignement. Enfin, le masque aligneur dispose également d'un certain nombre d'accessoires, dont une plate-forme haute performance et des illuminateurs supplémentaires. Dans l'ensemble, PLA 501 FA est un alignement de masque fiable et de haute précision qui rend la production de microélectronique beaucoup plus efficace et précise. Il offre des fonctionnalités avancées telles que l'alignement optique, le chargement automatisé du substrat, les systèmes d'éclairage optimisés et la technologie de réalignement, ce qui en fait une excellente option pour les opérations de photolithographie.