Occasion CANON PLA 501 FA #9328888 à vendre en France

CANON PLA 501 FA est un aligneur de masque fabriqué par CANON Anelva Corporation. Il est conçu pour être utilisé dans divers procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs et présente une conception de haute précision et structurée en matrice qui permet un alignement précis des photomasques sur le substrat. L'alignement du masque est capable de fournir un alignement précis avec une répétabilité de 0,3 µm et une précision de 1 µm. L'équipement supporte une large gamme de substrats, y compris le quartz, le silicium et même le GaAs, et a été conçu pour être hautement compatible avec une variété de photomasques. Le système dispose d'une unité optique puissante et haute résolution qui permet un contrôle de l'intensité lumineuse au-delà de 10-5 niveaux, des temps d'exposition rapides et un simple ajustement des conditions d'exposition. La combinaison de contrôle de l'intensité lumineuse, de précision d'alignement et de temps d'exposition rapide que CANON PLA-501FA offre le rend adapté à un large éventail d'applications, y compris l'exposition à la résine photosensible, la gravure sèche, la soudure et l'emballage. Le masque aligné dispose d'un grand panneau tactile très intuitif qui permet un fonctionnement et un réglage faciles. Il offre également une machine d'alerte de sécurité intégrée qui alertera l'utilisateur en cas de problèmes avec l'outil. En outre, l'actif dispose d'une technologie de démarrage souple qui réduit les vibrations et les distorsions thermiques pour augmenter encore la précision d'alignement. Les capacités avancées du modèle sont activées par une variété de composants matériels et logiciels, dont un capteur d'image CCD haute résolution, un équipement d'imagerie laser avancé, des axes XYZ haute précision, et une suite logicielle intégrée qui permet un réglage simple des paramètres, y compris la précision d'alignement, le temps d'exposition et plus. Dans l'ensemble, l'alignement de masque PLA 501FA est un système puissant et précis qui offre une excellente précision d'alignement avec une large gamme de substrats. Il est bien adapté à une variété de procédés de fabrication de dispositifs semi-conducteurs et offre des fonctionnalités avancées telles que le contrôle de l'intensité lumineuse, les temps d'exposition rapides, la technologie soft-start, un panneau de commande tactile intuitif, et plus encore.