Occasion CANON PLA 501 #293644254 à vendre en France

CANON PLA 501 est un aligneur de masque conçu pour des applications de photolithographie nécessitant une haute résolution et un alignement précis du masque. Ce système a été conçu pour l'alignement automatisé de photomasques avec une grande précision, permettant un haut degré de précision pour les motifs photomasques sensibles. Il est composé d'une table d'alignement d'axe X-Y, d'un microscope optique double, de trois réticules et d'une unité de projection avec une lentille d'imagerie longue distance de travail. La table d'alignement robotique à axe X-Y entraîne deux étages de bâton, chacun portant le réticule et le substrat avec une résolution de 0,001 mm. Ceci permet aux utilisateurs d'aligner avec précision plusieurs substrats et réticules sans induire de déformation dans la position du substrat ou du réticule. De plus, la table d'alignement présente la stabilité du mouvement de l'étage, qui permet une exposition photolithographique de haute précision sans vibration. Le microscope optique double a été optimisé pour un alignement précis et fiable des réticules et des substrats. Il se compose d'une tête optique de haut grossissement avec une plage de zoom allant jusqu'à 30X. Le microscope est équipé d'une double source de lumière optique, contrôle d'exposition réglable et peut être facilement connecté à un ordinateur personnel via un port USB dédié à la télécommande. Les trois réticules contiennent chacun des photomasques avec le motif désiré. Chaque masque est conçu pour définir les formes et les matériaux des dispositifs qui seront éventuellement imprimés. Les types de réticules les plus courants sont les masques à déphasage binaire, les masques à déphasage atténués, les masques à ouverture alternée et les masques sans aberration. L'unité de projection est équipée d'une lentille de projection longue distance de travail, qui assure l'exposition du motif sur le masque sur le substrat. Il est équipé d'un système de contrôle de l'exposition (la plage de contrôle de l'exposition est de 0,05-32 secondes) et a une vitesse d'obturation allant jusqu'à 1/1000 sec. Ceci permet un transfert de motif fiable et répétable avec une haute résolution. Dans l'ensemble, CANON PLA-501 est un aligneur de masque exceptionnellement précis et fiable qui convient aux applications de photolithographie de haute précision. Avec sa haute résolution et sa précision, il permet un transfert précis du motif sur le substrat avec une distorsion minimale.