Occasion CANON PLA 501 #293717420 à vendre en France

CANON PLA 501 est un aligneur de masque de précision entièrement automatisé, conçu pour des applications avancées de recherche en micro-électronique et de photolithographie de haute précision. Il est capable de fournir un alignement à haute résolution des substrats et des masques, ainsi qu'une imagerie rapide et répétable. CANON PLA-501 a une taille d'étage d'outil de 4 pouces par 4 pouces et une hauteur maximale de substrat de 6mm de l'étage d'outil. Il est équipé d'une source laser UV de 254nm et d'un équipement de miroir à balayage galvanométrique contrôlé par ordinateur qui permettent un alignement de haute précision. Le système dispose également d'un étage XY et μ Z, permettant des mouvements très précis du substrat et du masque pour répondre aux exigences de configuration de chaque expérience. PLA 501 dispose d'une unité de contrôle d'exposition sophistiquée, permettant aux utilisateurs d'ajuster les paramètres d'exposition, y compris la largeur et la longueur d'onde, le temps d'exposition et le rapport de dose d'exposition. Il dispose également d'un mode de dépassement manuel, permettant à l'utilisateur de définir manuellement les paramètres d'exposition sans affecter les valeurs prédéterminées. PLA-501 est installé avec un logiciel complet de contrôle des processus. Le logiciel permet aux utilisateurs de créer, modifier et exécuter des recettes, surveiller l'état des processus et recueillir des données expérimentales. Il permet également la télécommande de la machine, permettant des opérations d'exposition entièrement automatisées. En ce qui concerne la maintenance, CANON PLA 501 est équipé d'un outil d'auto-entretien intelligent qui inspecte régulièrement ses composants et informe l'utilisateur de la maintenance requise. En outre, il est équipé d'un outil de nettoyage automatique qui élimine la contamination des lentilles, de l'étage de masque et des substrats du modèle. Dans l'ensemble, CANON PLA-501 est un aligneur de masque à haut débit très précis qui convient à la recherche avancée en micro-électronique et aux applications de photolithographie. Il est livré avec une interface graphique intuitive, un équipement de contrôle d'exposition avancé, un auto-entretien intelligent et un système de nettoyage automatisé, ce qui en fait un choix idéal pour une fabrication haute vitesse et très précise.