Occasion CANON PLA 501 #9004050 à vendre en France

CANON PLA 501 est un adaptateur de masque avancé conçu pour soutenir les processus essentiels à la fabrication d'appareils électroniques. Spécifiquement conçu pour les procédés de photolithographie, CANON PLA-501 joue un rôle essentiel dans la production de circuits intégrés semi-conducteurs et d'autres composants de dispositifs microélectroniques. PLA 501 est équipé de multiples fonctionnalités conçues pour optimiser le processus d'alignement du masque. Le masque aligneur dispose d'une plaque d'étage de plaquette, avec aspirateur automatisé, qui facilite l'alignement précis des plaquettes pour la lithographie. Ceci est couplé avec un équipement d'imagerie numérique de meilleure qualité qui éclaire le masque pour capturer une image des motifs du masque. Le système d'imagerie utilise une caméra CCD haute résolution qui peut capturer des motifs avec une résolution inférieure à 0,5 μ m. PLA-501 dispose également d'une unité de réglage de la focale entièrement automatisée qui ajuste la focale de la source optique pour correspondre à celle de la plaquette en cours de traitement. Cette machine permet aux utilisateurs de surveiller la qualité de mise au point pendant le processus de lithographie, et d'obtenir une précision d'alignement reproductible et la plus haute résolution de production. L'alignement du masque comporte également un alignement et une rotation des motifs pour les aberrations et autres événements qui pourraient perturber l'image des motifs du masque. En plus de ces fonctionnalités, CANON PLA 501 offre également une gamme d'options de processus automatisés pour accroître l'efficacité et la productivité. Les utilisateurs peuvent choisir parmi un procédé de revêtement chimique automatisé, qui offre une uniformité chimique et des propriétés d'adhérence améliorées, ainsi qu'un revêtement antireflet automatisé, qui réduit les interférences aérodynamiques. De plus, CANON PLA-501 offre de nombreuses options de processus telles que l'écriture directe au laser et l'écriture directe au faisceau d'électrons, qui facilitent des processus de gravure et de gravure très précis. Dans l'ensemble, PLA 501 est un aligneur de masque avancé conçu pour gérer intelligemment l'alignement des motifs de masque et reproduire leurs images dans les processus de photolithographie. Le masque aligneur offre divers processus automatisés et une résolution superbe, permettant aux utilisateurs d'obtenir la plus grande précision et précision possible avec leur production.