Occasion CANON PLA 501 #9301351 à vendre en France

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Fabricant
CANON
Modèle
PLA 501
ID: 9301351
Mask aligner.
CANON PLA 501 est un alignement de masque de bureau avec un design unique, peu coûteux et facile à utiliser. Le produit offre d'excellentes performances de lithographie répétables grâce à sa grande précision spatiale et son contrôle de précision. L'équipement dispose de capacités d'alignement automatique et de manutention des plaquettes, ce qui permet aux utilisateurs de réduire le temps et les coûts associés à la lithographie optique. CANON PLA-501 dispose d'un système de détection haute résolution, haute énergie et faible distorsion qui permet un alignement et une définition précis au niveau du masque et de la plaquette. L'unité est alimentée par la technologie laser pulsé exclusive CANON et peut effectuer plusieurs expositions en une seule opération. La machine utilise une série de largeurs et d'intensités d'impulsions pour exposer précisément le masque ou la plaquette. La disposition laser unique assure une exposition uniforme à travers le masque ou la plaquette. Cela favorise des résultats optimaux avec moins d'artefacts. L'outil utilise un processus d'exposition en deux étapes pour améliorer la répartition et la concentration de l'exposition. La première étape est une méthode d'alignement qui détecte rapidement et précisément le motif du masque. A la deuxième étape, une dose et une exposition optimales sont appliquées sur le substrat. Ceci assure un transfert constant du motif sur le substrat. L'actif comprend des logiciels avancés qui peuvent optimiser les paramètres d'exposition pour améliorer encore la précision et la répétabilité. Le logiciel permet également un rendement élevé et efficace grâce à l'intégration de plusieurs outils, tels que la vérification de l'alignement, l'optimisation automatisée de l'exposition et les contrôles de rétroaction des mesures. Le logiciel est facile à utiliser et peut être utilisé dans n'importe quelle langue. PLA 501 a une variété de caractéristiques qui le rendent idéal pour la recherche fondamentale et les applications commerciales. Le modèle peut traiter un large éventail d'applications, y compris la lithographie sur une grande variété de substrats. Sa conception unique et sa fonctionnalité conviviale en font une excellente option pour tout laboratoire.
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