Occasion CANON PLA 600 FA #9026887 à vendre en France

CANON PLA 600 FA masque aligner est un équipement de photolithographie très précis utilisé dans la production de circuits intégrés semi-conducteurs. Il est conçu pour la simplicité d'utilisation et la plus grande précision, supportant une large gamme de substrats de 180 mm à 200 mm de taille. Le système obtient une grande précision en utilisant un générateur de motifs laser précis qui est monté sur le même étage X-Y que le substrat. Ceci permet un alignement sur l'ensemble du substrat. Il permet également un déplacement global et un ajustement de la taille des motifs de haute précision sur tous les substrats. L'alignement et l'exposition des masques sont réalisés avec une technique de haute qualité de balayage ionique (SIB), optimisant l'équilibre entre précision de recouvrement et débit. L'unité utilise un masque de diffraction pour obtenir l'alignement et l'exposition requis en une seule fois et intègre un ajusteur de puissance laser impulsionnel pour des caractéristiques beaucoup plus précises à la surface du substrat. Un capteur optique avancé est intégré pour garantir une précision d'alignement directe de 1 μ m et une précision de recouvrement de 2 μ m. L'outil utilise également diverses technologies avancées pour traiter des films photorésistants dans une fraction du temps requis par les méthodes traditionnelles. Cela comprend une source lumineuse ultraviolette avancée avec un obturateur réglable pour un contrôle précis de l'exposition ; et un modèle de balayage multipoint pour le réglage automatique et la focalisation automatique. L'équipement est intégré à une gamme de fonctionnalités d'automatisation numérique telles que le chargeur FOUP (Front Opening UNPlease) pour des capacités de transport maximales ; un auto-basculement/décalage pour ajuster l'inclinaison et le décalage pour la répétabilité des motifs ; et un dispositif de centrage de la buse pour changer les environnements de processus. CANON PLA-600FA est idéal pour la production de dispositifs à haute densité et semi-conducteurs, avec des caractéristiques telles que des expositions programmables étendues. Le système fournit des résultats très précis et un retournement rapide, réduisant le temps de production et augmentant la productivité.