Occasion CANON PLA 600 FA #9148245 à vendre en France

CANON PLA 600 FA est un aligneur de masque de haute précision qui est conçu pour une utilisation dans la technologie de lithographie avancée. Il dispose d'une très haute précision qui assure un travail précis sur une large surface. Cela permet aux utilisateurs d'atteindre les conceptions souhaitées sans augmenter la résolution du photomasque. Le masque aligneur fonctionne dans une plage de 355 à 420 nm et a une grande taille de champ de 600 mm. Il dispose également d'un grossissement haute résolution de 1x à 16x. L'aligneur de masque peut effectuer un alignement de l'ordre du micron, ce qui est nécessaire pour la réalisation de caractéristiques de sous-microns. Le scanner dispose d'un étage porte-air intégré avec une résolution de 0,8 microns et une répétabilité de 0,1 microns. Cette étape est conçue pour assurer un alignement précis du masque avec la plaquette. Il est également équipé d'une caméra CCD haute résolution, qui a une taille de pixel de 5 μ m et une résolution latérale de 4 μ m. La caméra CCD utilise des techniques d'homodyne, d'auto-corrélation et de gradient pour assurer la précision de l'alignement. Le masque aligneur est également équipé d'une scène Actinictm wafer. Cet étage a un grossissement de 5x avec une résolution d'étage de 10 microns et une répétabilité de 1 micron. En outre, le scanner dispose d'un système de balayage par faisceau qui permet un profil de balayage rapide et stable. CANON PLA-600FA masque aligner est également équipé d'un logiciel qui améliore ses capacités. La trousse LexEco est utilisée pour gérer divers paramètres tels que le temps d'exposition optimal et la dose. Cela garantit que l'aligneur dispose des paramètres nécessaires à la bonne collecte et analyse des données. Il dispose également de fonctions de détection de défauts, de cartographie des plaquettes et de mesure de distance. L'alignement de masque PLA 600FA est un instrument très précis pour la technologie de lithographie. Sa précision et sa résolution en font un excellent choix pour la production de fonctionnalités sub-micron. Ses paliers à air intégrés et l'étage de plaquette assurent un alignement cohérent du masque avec la plaquette, et des logiciels et des fonctions supplémentaires rendent l'alignement adapté à de nombreuses tâches spécifiques.