Occasion CANON PLA 600F #9397141 à vendre en France

CANON PLA 600F est un aligneur de masque de pointe conçu pour la photolithographie de haute précision. Cet outil permet de déposer avec précision des couches de matériaux sur un substrat de manière uniforme et répétable. Il est adapté à un large éventail d'applications de photolithographie, y compris les semi-conducteurs, LED, MEMS, et bio-médecine. L'équipement CANON PLA600F utilise le centrage mécanique pour aligner avec précision le substrat avec le masque et la source lumineuse. Il a un réglage en hauteur de +/- 1mm et une précision de positionnement XY de ± 0,6 μ m. Il utilise des étages mobiles mécaniques très précis avec une plage d'erreur XY de quelques µm. Le système dispose également de lentilles optiques hautes performances, permettant un alignement précis à des résolutions allant jusqu'à 1µm. L'unité est facile à utiliser avec une variété d'écrans de contrôle logiciel conviviaux. Les menus sont conçus pour offrir une expérience utilisateur simple. Trois modes d'exposition sont disponibles ; normal, Soft Touch et exposition rapide. En outre, la machine peut stocker jusqu'à neuf paramètres d'échantillon pour un rappel facile des données. Le masque aligné est ensuite exposé avec la lampe à mercure de la machine en utilisant le temps d'exposition et la longueur d'onde appropriés. La lampe est stabilisée en assurant une intensité lumineuse constante en tout temps. L'outil dispose également d'un processeur OPC intégré (correction optique de proximité). Cet actif est capable de fournir des paramètres d'exposition optimaux en fonction des exigences du processus de l'utilisateur. PLA-600F masque aligner est un outil efficace et fiable qui permet aux utilisateurs d'obtenir des résultats de photolithographie très précis et reproductibles à maintes reprises. Il offre une interface facile à utiliser, un centrage mécanique précis, des lentilles optiques puissantes, des lampes à mercure haute performance et une correction OPC intégrée. Cette combinaison fait de CANON PLA 600 F un choix idéal pour une variété de besoins en photolithographie.