Occasion DNK MA-4200 #293762485 à vendre en France

DNK MA-4200 est un aligneur de masque de haute précision développé pour la production de masques de lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour l'alignement des photomasques opaques et transparents sur les substrats utilisés en photolithographie et est capable de fournir un alignement précis et cohérent des photomasques sur un substrat dans une plage de 2 μ m pour le déplacement du masque ou du substrat. L'aligneur dispose d'un objectif 30X et d'un équipement d'alignement amélioré pour fournir une formation d'image optimale et une meilleure capacité pour l'alignement masque-substrat. L'alignement fonctionne en projetant les photomasques sur le substrat à l'aide d'une diode laser pour assurer une grande précision et un alignement précis. Un système d'enregistrement interactif permet aux opérateurs d'identifier et d'ajuster facilement la marque d'enregistrement sur le substrat tandis qu'une caméra haute résolution acquiert l'image d'alignement pour traitement. L'appareil photo dispose d'une technologie avancée de reconnaissance d'image basée sur algorithme (AAIR) qui permet de mesurer avec précision et précision la taille et la position des marques d'enregistrement ainsi que d'autres caractéristiques des photomasques. L'outil dispose d'une table de substrat améliorée qui est calibrée avec précision et contrôlée numériquement à 500 mm/s pour un mouvement rapide et précis du substrat. Le tableau comprend également une machine à écrire manuelle et automatique qui permet de choisir une performance de pondération appropriée pour répondre aux besoins de divers substrats. L'aligneur est équipé d'une variété d'opérations, y compris l'inversion horizontale et verticale du masque, le retournement du masque et le décalage de l'écran, et une fonction manuelle de décalage du substrat qui permet des réglages d'alignement rapides et précis. DNK MA4200 est conçu avec un logiciel de contrôle graphique convivial, permettant un fonctionnement facile et précis de l'alignement. De plus, ses fonctions de détection automatique des défauts (AD) permettent à l'opérateur d'identifier rapidement les points de défaut réels sur les photomasques. L'aligneur dispose également d'un outil optionnel de détection des bords qui fournit une précision de positionnement supplémentaire. Ceci en fait un choix idéal pour la réalisation de masques de lithographie utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs.