Occasion DNK MA-4200 #293814042 à vendre en France

Fabricant
DNK
Modèle
MA-4200
ID: 293814042
Mask aligners.
L'aligneur de masque DNK MA-4200 est un instrument de précision pour la photolithographie utilisé dans les processus de microfabrication. Il est utilisé pour imprimer, aligner et graver des motifs sur des substrats pour créer des circuits et des composants microélectroniques. DNK MA4200 est conçu pour assurer la précision et l'uniformité de l'alignement et de la fidélité des motifs. MA 4200 se compose d'une unité de base, d'une tête d'alignement photomasque et de trois étages lithographiques. L'unité de base contient tous les contrôleurs du système, les processeurs de signal, les alimentations et les sources d'éclairage. Il comprend également une interface utilisateur pour la programmation, l'ajustement et la communication. La tête d'alignement du masque maintient le photomasque et la plaque de substrat. Le photomasque est réalisé en matériau à couches minces avec des zones optiquement transparentes représentant le motif de circuit désiré. La plaque de substrat est typiquement une plaquette semi-conductrice contenant le matériau cible du motif de circuit. Les trois étapes lithographiques sont l'alignement du masque, l'exposition du masque et les étapes de développement du modèle. L'étage d'alignement du masque utilise un système optique télécentrique et deux étages linéaires contrôlés indépendamment pour aligner avec précision le photomasque sur la plaque du substrat. L'étape d'exposition au masque utilise une source lumineuse à cathode froide de 100 kV et une ouverture motorisée pour irradier uniformément le photomasque. L'étape de développement du motif utilise un révélateur de liquide pour graver le film photorésistant exposé, qui transfère le motif du circuit sur le substrat. MA4200 aligneur de masque peut être configuré pour fonctionner avec un étage de microscope optique ou des étages d'alignement automatisés, selon le débit attendu et les exigences de précision. Il peut traiter une taille maximale de substrat de 100 x 100 mm avec des résolutions allant jusqu'à 0,2 µm, et il est capable de bloquer tout type de matériau photorésistant, y compris diélectrique, céramique et couches conductrices. Dans le résumé, MA 4 200 masque aligner est un haut instrument de précision et flexible utilisé dans les processus de microfabrication pour faire des circuits microélectroniques et des composantes. Il a une large gamme de configurabilité et est capable de fournir une excellente précision pour les cycles de production à court et long terme.
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