Occasion DNK MA-4200 #9144228 à vendre en France

DNK MA-4200 est un aligneur de masque, un outil conçu pour aligner précisément des masques sur un substrat de photolithographie. DNK MA4200 répond aux normes industrielles en photolithographie avancée pour ses excellentes performances, sa précision et sa haute précision. Il est livré avec un certain nombre de fonctionnalités et de capacités qui lui permettent d'atteindre l'alignement parfait de la plupart des masques sur une gamme de substrats. La conception de MA 4200 lui permet de réaliser des alignements de masques simples et doubles, en utilisant des algorithmes avancés permettant un alignement précis des deux côtés du masque avec la couche de substrat. L'équipement utilise également une technologie de capture d'image numérique unique pour assurer un alignement parfait des images sur la couche de substrat. Le processus d'alignement est également aidé par une fonction d'auto-recalibrage qui permet au système d'obtenir l'angle d'alignement et la distance dès la première fois. MA4200 est alimenté par une plate-forme robuste et stable qui permet des capacités de traitement sophistiquées et obtient une non-uniformité dans le processus d'alignement. Ceci garantit que même les masques les plus complexes et les plus complexes peuvent être alignés avec précision sur la couche de substrat. En outre, l'unité dispose de fonctions d'imagerie puissantes qui offrent aux utilisateurs des niveaux plus élevés de précision, de vitesse et de succès tout au long du processus d'alignement. La machine dispose également d'un certain nombre de contrôles environnementaux et conviviaux qui garantissent des processus d'alignement respectueux de l'environnement et sûrs pour les utilisateurs. Cela comprend des caractéristiques telles qu'une fonction auto-propre intégrée, un outil de gestion des gaz d'échappement, des couvertures de protection et des rideaux sanitaires. Les serrures de sécurité intégrées et les sources lumineuses contribuent quant à elles à assurer la sécurité des opérateurs pendant le processus d'alignement. DNK MA 4200 peut également être intégré à une gamme de systèmes informatiques et d'applications logicielles telles que Autodesk AutoCAD, un outil qui aide à contrôler l'ensemble du processus d'alignement et des images. Enfin, l'actif a également la capacité d'effectuer des inspections, ce qui assure une surveillance continue et la précision tout au long du processus de photolithographie. Dans l'ensemble, MA-4200 masque aligner offre une solution fiable et rentable pour les processus de photolithographie profonde à des fins industrielles et de recherche. Avec ses fonctionnalités avancées et son design convivial, il offre la combinaison parfaite de précision, de flexibilité et de performance.