Occasion DNK MA-4200 #9144337 à vendre en France

Le masque DNK MA-4200 aligner est un équipement de photolithographie semi-automatisé utilisé pour fabriquer des dispositifs micro-électroniques. Il peut être utilisé pour fabriquer des dispositifs avec des caractéristiques dans une plage de 20 à 200 nm. La machine se compose de deux parties primaires, un ordinateur central et le lecteur/écrivain. L'ordinateur central DNK MA4200 abrite les composants optiques et mécaniques nécessaires à la photolithographie. Celle-ci comporte une plaque de base sur laquelle sont placés le masque et le substrat. Le lecteur/écrivain est un système à commande électronique qui interprète le motif sur le masque et l'écrit sur le substrat. La machine a plusieurs caractéristiques réglables pour aider à obtenir une fabrication de haute précision. Le moteur pas à pas permet des réglages microscopiques selon les axes X et Y pour un total de quatre degrés de liberté. L'étage de masque peut être déplacé en 5 incréments continus et peut également être tourné en incréments de cinq degrés. Le lecteur/écrivain utilise un laser ultraviolet pour l'exposition et un étage à six zones pour focaliser la résine photosensible sur le substrat. Lorsqu'un travail de fabrication est chargé dans MA 4200, le masque est d'abord aligné avec le substrat en utilisant l'étage X, Y et rotation. Ensuite, une série de balayages sont initiés avec le masque et le substrat. Chaque balayage prend plusieurs passes et échelle laser pour écrire le motif sur le substrat. La longueur de chaque balayage dépend de la résolution et de la précision souhaitées. Une fois le motif inscrit sur le substrat, MA-4200 a un cycle de développement automatique. Cette étape nécessite plus de précision que d'autres parties du procédé et est conçue pour appliquer une couche mince de photorésist pour sélectionner des portions du substrat. Dans l'ensemble, l'aligneur de masque DNK MA 4200 est un outil polyvalent et autonome qui est essentiel pour la microfabrication de haute précision. Il est capable de produire avec précision des caractéristiques aussi petites que 20 nanomètres avec des résultats reproductibles, ce qui le rend idéal pour créer des conceptions complexes pour les futurs appareils électroniques.