Occasion DNK MA-4200 #9159261 à vendre en France

DNK MA-4200 est un Masque Aligné automatisé conçu pour travailler avec des plaquettes jusqu'à 200mm. Il dispose d'un positionneur de masque (MP) et d'un microscope d'alignement (AM) qui peuvent être utilisés pour l'alignement précis de diverses structures d'appareils sur une plaquette. Les aligneurs de masques sont couramment utilisés dans l'industrie de la microélectronique pour les processus de photolithographie. Le Masque Positioner (MP) a un système de positionnement X-Y qui déplace le cadre de masque sur la plaquette. Il est capable d'aligner automatiquement le cadre de masque sur la plaquette avec une résolution de 0,1 μ m. Il est équipé d'un moteur synchrone et d'un codeur haute résolution pour un positionnement précis. Le positionneur de masque permet également d'affiner manuellement le cadre de masque à l'aide du microscope d'alignement. Le microscope d'alignement (AM) est un microscope optique avec diode laser intégrée et port de vision anti-splash. Il est utilisé pour observer et aligner le cadre de masque sur la plaquette avec une précision de niveau nanométrique. Le microscope d'alignement a un grossissement de 10x et une résolution de 0,2 μ m. Il est capable d'aligner des substrats de grande surface à l'aide de cibles d'alignement. DNK MA4200 comprend également un mécanisme d'orientation de la caméra (COM), qui est utilisé pour orienter la caméra pour l'écriture de masque et d'autres processus. Le COM est équipé d'un moteur de couple haute performance et de codeurs sophistiqués, ce qui le rend capable d'un alignement très précis de la caméra sur la plaquette. De plus, le Masque Aligner est équipé d'un illuminateur halogène de grande puissance, permettant de générer un éclairage uniforme sur une grande surface. Il dispose d'un système de refroidissement intégré pour améliorer les performances d'écriture du masque, ainsi que d'un journal de maintenance pour le suivi des opérations de maintenance. MA 4200 est un alignement de masque fiable et efficace avec des fonctionnalités qui le rendent adapté à une large gamme d'étapes de processus de photolithographie. Il offre une excellente combinaison de précision, de précision et de performance, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication de microélectronique de haute qualité.