Occasion ELS TECHNOLOGY ELS 106FA #9156035 à vendre en France

ELS TECHNOLOGY ELS 106FA Mask Aligner est un outil avancé et rapide pour l'alignement précis et précis des photomasques et des substrats dans la recherche semi-conductrice et optoélectronique. Il est conçu pour des applications nécessitant un alignement direct du masque sur le substrat, ou pour une exposition au masque de contact ou de proximité. ELS TECHNOLOGY ELS-106FA Mask Aligner dispose d'un contrôleur tactile, de commandes Stepper Motor et d'un alignement de masque et de substrat entièrement automatisé et contrôlé par ordinateur. Ce système compact, puissant et convivial permet un fonctionnement simplifié et une précision inégalée. Ses caractéristiques innovantes comprennent un système de nettoyage automatique des masques et un module breveté de traitement par voie humide. ELS 106FA Mask Aligner fonctionne selon divers modes d'alignement. La précision d'alignement est améliorée par des capteurs plein champ avec une résolution de 0,7 μ m, ce qui permet à l'utilisateur de mieux contrôler la précision de l'exposition. Il est également équipé d'une capacité de correction laser de 1 000 microns par seconde. L'opérateur d'alignement peut déterminer le degré angulaire d'alignement (inclinaison) en faisant tourner un bouton « fine-inclinaison » ; cela permet une précision de +/- 1 degré. ELS-106FA Les fonctionnalités avancées de Mask Aligner permettent aux professionnels de la recherche et du développement optoélectronique de créer des circuits intégrés rentables, de haute qualité et fiables. Il est conçu pour fonctionner dans une gamme de températures allant de -10 ° C à 50 ° C et supporte diverses résolutions de lentilles dont 0,4 µm à 200 µm. ELS TECHNOLOGY ELS 106FA Mask Aligner offre un excellent rapport qualité-prix. Sa conception fiable, performante et économique en fait une solution idéale pour tout laboratoire de recherche optoélectronique ou toute installation de production. Ses caractéristiques avancées, telles que le traitement humide et la correction laser, permettent un contrôle précis des résultats de photolithographie. La facilité d'utilisation et l'interface conviviale garantissent que l'alignement ELS 10FA Mask est un outil productif et fiable pour les applications de photolithographie.