Occasion ELS TECHNOLOGY ELS 106SA #9059476 à vendre en France

ELS TECHNOLOGY ELS-106SA est un adaptateur de masque compact et facile à utiliser pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité tels que des puces à mémoire, des dispositifs logiques et des transistors à couches minces. ELS-106SA est conçu pour aligner et transférer des photomasques haute résolution sur la surface de la plaquette avec précision et rapidité avec une surface de balayage pouvant atteindre 5mm x 4mm. L'équipement d'alignement optique avancé ELS TECHNOLOGY ELS-106SA détecte automatiquement la taille des fonctionnalités, l'erreur d'alignement, la précision de recouvrement et les paramètres de processus pour toutes les couches de photomasques et de plaquettes. ELS-106SA est équipé d'un système d'alignement motorisé très sophistiqué qui détecte automatiquement tous les points terminaux avec une précision de 20nm dans les couches photomasque et wafer. De plus, le réglage de la position pour la cartographie des motifs photomasques sur la plaquette est également contrôlé automatiquement. L'unité d'alignement est renforcée par une machine de diffusion laser intégrée qui fournit des mesures de superposition dynamique précises, permettant d'aligner avec précision les motifs de photomasques sur les couches de film ci-dessous. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA est également équipé d'un moteur pas à pas à haut rendement pour un positionnement précis du photomasque sur la plaquette. Ce moteur est couplé à un indexeur et alimenté par l'outil de microcontrôleur embarqué ELS-106SA, fournissant un alignement nano-niveau précis. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA dispose également d'une capacité de focalisation automatique, permettant à l'utilisateur d'optimiser ses expositions avec une résolution et une précision plus élevées, tout en offrant des performances robustes. ELS-106SA est également équipé d'un environnement à température ambiante, réglé par son régulateur de température, pour assurer un processus stable. Cette caractéristique supplémentaire permet d'assurer une faible proximité des photomasques avec les plaquettes, ce qui est essentiel pour des applications telles que la technologie du silicium contraint. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA est autonome, mais peut être configuré individuellement pour répondre à une variété d'exigences de tests et de processus. Il prend en charge les conditions de test neutre de la plate-forme, et peut être intégré avec d'autres systèmes de détection automatique des défauts et pour les fonctions d'optimisation des photomasques. ELS-106SA dispose également d'un accès à distance pour la surveillance à distance et l'analyse des performances des actifs, ainsi que pour le dépannage. En conclusion, ELS TECHNOLOGY ELS-106SA est un aligneur de masque robuste et fiable, capable de fournir des photomasques de haute qualité pour une variété de dispositifs semi-conducteurs. Ses capacités avancées d'auto-alignement et d'auto-focus garantissent une précision et une répétabilité inégalées, tandis que ses éléments de quartz à température contrôlée assurent la stabilité requise pour le traitement des plaquettes à haute résolution. Ses autres caractéristiques telles que l'accès à distance, la neutralité de la plateforme et l'intégration avec d'autres systèmes ajoutent encore à son efficacité.