Occasion EVG / EV GROUP 40 #9197307 à vendre en France

EVG®/EVG/EV GROUP 40 Masque Aligner est un équipement de photolithographie polyvalent et précis conçu pour fabriquer des microstructures cohérentes sur des dispositifs semi-conducteurs. Le système permet l'alignement et l'exposition fiable des substrats jusqu'à 3,7 pouces de taille en utilisant une lumière UV uniforme dans un environnement contrôlé. La conception unique en deux étapes du Masque Aligner assure l'exposition précise et propre de chaque couche, tandis qu'un vide intégré de série maintient les substrats étroitement sécurisés lors des processus de lithographie. De plus, l'unité est capable de manipuler une grande variété de photomasques et autres substrats optiquement clairs pour des résultats supérieurs. Le Masque Aligner est équipé d'une machine d'alignement numérique avancée qui permet un positionnement précis des substrats optiquement clairs pendant l'exposition. L'outil d'alignement utilise deux étapes de réglage fin pour une précision d'enregistrement parfaite, assurant que chaque microstructure est exposée avec succès avec une finition propre et uniforme. De plus, un capteur d'alignement optique unique permet de suivre l'emplacement exact du substrat, en éliminant les désalignements et en garantissant la précision des expositions répétées. La chambre optique de l'actif est conçue pour réduire la diffusion de la lumière pour une exposition uniforme à la lumière UV sur l'ensemble du substrat. Cela garantit que des structures identiques peuvent être reproduites avec précision sur chaque couche, tandis que le vide intégré permet des substrats solidement fixés qui restent stables et sécurisés tout au long du processus. En plus de ses capacités d'alignement automatisé, le Masque Aligner peut également gérer une variété de substrats optiquement clairs et translucides pour faciliter la lithographie propre et cohérente. Pour des besoins plus spécifiques, le modèle peut être personnalisé avec des logiciels, du matériel et des accessoires spécialisés (par exemple, étages de chauffage de haute précision, lampes UV haute performance). De plus, le Masque Aligner peut être intégré aux lignes de production existantes pour une intégration homogène et une polyvalence ultime. Dans l'ensemble, EV GROUP®/EVG 40 Masque Aligner est un choix idéal pour toute opération nécessitant une précision et une précision extrêmes. Sa chambre optique avancée, son équipement d'alignement automatisé et sa capacité à manipuler divers substrats en font un choix idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et d'autres opérations de fabrication de haute technologie.