Occasion EVG / EV GROUP 40 #9232667 à vendre en France

L'aligneur de masque |EVG/EV GROUP 40 est un outil de microlithographie très précis et efficace, capable d'aligner et d'exposer des motifs sur différents substrats. La précision de l'alignement du masque découle de sa résolution verticale avancée de 0,6 μ m, ainsi que d'un taux de répétabilité pouvant atteindre 10 µm pour un placement optimal des images projetées. Cette précision assure une exposition précise des motifs sur le substrat à plus long terme, préparant le substrat aux étapes ultérieures du processus de lithographie. La conception avancée de l'alignement de masque |EVG 40 garantit une précision et une répétabilité extrêmes avant tout processus d'alignement. L'étage est capable de déplacer la course jusqu'à 600 mm avec une répétabilité de 0,05 μ m et une précision de positionnement de 0,3 μ m. Cela garantit que les substrats sont correctement préparés pour l'alignement face contre face et peuvent être exposés de façon répétée et précise. Cette conception d'étage permet également un déplacement de motifs de haute précision tout en exposant le même motif sur plusieurs substrats. Afin de faciliter un traitement de production efficace, l'aligneur de masque |EV GROUP 40 est équipé d'un chargeur de masque très efficace. Le chargeur facile à utiliser est conçu pour stocker jusqu'à 40 masques et pour indexer ces masques de manière ordonnée, assurant ainsi la cohérence de la production tout au long. Ce processus de chargement rapide et précis du masque améliore encore le temps de production et minimise le risque d'erreur. L'alignement de masque |EVG/EV GROUP 40 peut également faciliter les opérations de production à haut volume grâce à son système d'affichage de projection très efficace. Avec une résolution d'exposition de 0,6 μ m et un affichage de projection haute résolution jusqu'à 1056 x 2032 points, le système est conçu pour générer une grande variété de structures de lithographie sur divers substrats simultanément. Cela assure un traitement de production plus rapide et plus précis. L'aligneur de masque |EVG 40 est également conçu pour observer et surveiller chaque étape du processus de production. Il est équipé d'une caméra CCD interne et d'un système de détection automatique de gain qui enregistre et traite l'imagerie en temps réel, augmentant ainsi considérablement la précision du processus. L'aligneur de masque |EV GROUP 40 est un outil de microlithographie efficace pour l'alignement précis des masques et l'exposition des motifs sur les substrats. Sa conception avancée garantit une précision et une répétabilité extrêmes, tandis que ses caractéristiques efficaces le rendent adapté à un large éventail d'applications lithographiques. Ses systèmes de surveillance intégrés assurent le suivi des processus et augmentent les performances de production.