Occasion EVG / EV GROUP 420 #293589823 à vendre en France

EVG/EV GROUP 420 est un aligneur de masque avancé et fiable pour la photolithographie utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour une production en volume de très petites structures et de composants MEMS. Il offre un équipement d'alignement avancé et un logiciel intuitif orienté vers l'utilisateur pour une commodité maximale. Le système comprend une tête d'imagerie optique de précision alimentée par une unité d'alignement de points laser augmentée d'une machine de détection de focalisation. Il comprend une vaste gamme d'outils d'alignement post-exposition pour obtenir une précision de position ± 1,5µm dans une répétabilité inférieure à 0,5µm. L'outil fonctionne dans un large éventail de conditions environnementales et d'accélération et de décélération modérées. Des systèmes d'éclairage optionnels peuvent être ajoutés à l'actif pour améliorer l'uniformité, le contrôle des processus et la surveillance de l'exposition en temps réel. Il offre une compatibilité die-to-die, permettant une exposition et un développement simultanés. Il offre un temps d'exécution exceptionnel et la fiabilité avec un design modulaire et léger qui est facilement reconfiguré pour différentes tâches. Le modèle intègre un alignement de cadre de précision, une capacité de manutention intégrée des plaquettes, un mandrin chaud et des fonctions de contrôle d'exposition avancées. Il est doté d'un design ergonomique et flexible avec une commande conviviale du panneau tactile, une détection automatique de la focale et un minuteur d'exposition réglable. Les performances et les précisions de la machine se comparent à des systèmes plus coûteux tout en exigeant moins de techniques de compensation de l'environnement et du processus. Il offre également des fonctions prévisionnelles non disponibles dans les aligneurs de masques tels que l'enregistrement aux couches d'exposition précédentes et l'enregistrement à plusieurs niveaux. La machine est sûre et facile à utiliser, permettant une exposition précise et fiable des caractéristiques de haute précision. Ses caractéristiques et options fournissent des capacités étendues pour l'exposition de haute valeur, des applications avancées. Dans l'ensemble, EVG 420 est un alignement de masque avancé, fiable et facile à utiliser qui convient à des applications de production à haut volume dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour répondre aux besoins des processus de photolithographie avancés avec un temps d'exécution exceptionnel et la fiabilité.