Occasion EVG / EV GROUP 420 #293757176 à vendre en France

EVG/EV GROUP 420 Masque Aligner est un masque polyvalent qui offre aux utilisateurs des capacités de masquage et de métrologie dynamiques pour leur développement de processus. EVG 420 Mask Aligner est idéal pour des projets allant de la lithographie optique aux technologies nanométriques. Il dispose d'une grande précision, grâce aux dernières technologies d'alignement de précision et lasers, et peut fournir une large gamme de variations de substrat et d'expertise de processus. EV GROUP 420 Masque Aligner est conçu et équipé d'une tourelle intégrée spéciale qui permet le chargement rapide de plusieurs cadres de masque à la fois, ce qui facilite le passage entre différents masques et l'exécution de plusieurs projets à la fois. En outre, il offre trois modes d'alignement distincts conçus pour répondre aux besoins de toute application : l'alignement manuel, la détection automatique de coin, et la détection de bord. L'alignement manuel est le moyen le plus précis d'aligner les masques fragiles et de minimiser la distorsion résiduelle. 420 Masque Aligner promet également un débit rapide, avec un temps de cycle de seulement 240 secondes et des vitesses de débit allant jusqu'à 200 wafers par heure. Il peut également manipuler des substrats minces en raison de sa faible épaisseur minimale de substrat de 0,2 mm. Pendant ce temps, le Masque Aligner dispose également de contrôle de focalisation adaptatif, de contrôle d'inclinaison et d'algorithmes de planarisation pour améliorer la qualité du processus. D'autres caractéristiques notables de EVG/EV GROUP 420 Mask Aligner comprennent le chargement et le déchargement entièrement automatisés des plaquettes ; un système d'imagerie thermique pour l'ajustement de la température ; le CCD et le système d'imagerie auto-exposition de pointe ; et une bibliothèque de recettes d'alignement de superposition. Dans l'ensemble, EVG 420 Mask Aligner est un outil d'imagerie polyvalent avec une foule de fonctionnalités et de capacités idéales pour un processus de lithographie et de métrologie rapide et précis. C'est un outil idéal pour tout environnement de développement et de recherche où la haute précision et la vitesse sont primordiales.